| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-19页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·磁光存储的写入和读出原理 | 第10-11页 |
| ·新型磁光存储技术 | 第11-14页 |
| ·短波长磁光存储技术 | 第12页 |
| ·磁超分辨读出技术 | 第12-14页 |
| ·磁光存储介质的研究进展 | 第14-17页 |
| ·短波长磁光存储介质 | 第14-15页 |
| ·磁超分辨磁光存储介质 | 第15-17页 |
| ·蓝光磁超分辨磁光存储介质的研究及其意义 | 第17-19页 |
| 第二章 实验内容 | 第19-33页 |
| ·实验研究方案 | 第19-20页 |
| ·单层磁光存储薄膜制备工艺及性能研究 | 第19页 |
| ·双层耦合薄膜的制备工艺及性能研究 | 第19-20页 |
| ·实验材料 | 第20页 |
| ·薄膜样品制备 | 第20-23页 |
| ·薄膜样品制备仪器及其特点 | 第20-22页 |
| ·薄膜样品制备的准备工作及镀膜过程 | 第22-23页 |
| ·薄膜性能的测试 | 第23-30页 |
| ·表面磁光克尔效应实验系统 | 第23-29页 |
| ·磁光克尔效应的原理 | 第23-24页 |
| ·利用SMOKE系统测得薄膜H_c的计算方法 | 第24-25页 |
| ·利用SMOKE系统测得薄膜Kerr角的计算方法 | 第25-28页 |
| ·利用SMOKE系统测试薄膜耦合效应的方法 | 第28-29页 |
| ·振动样品磁强计(VSM) | 第29页 |
| ·Kerr谱仪 | 第29-30页 |
| ·薄膜结构的测试方法 | 第30-33页 |
| ·X射线衍射分析测试及原理 | 第30页 |
| ·薄膜厚度测量 | 第30-33页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第33-63页 |
| ·单层薄膜的制备与性能研究 | 第33-54页 |
| ·PtCo薄膜的研究 | 第33-42页 |
| ·PtCo薄膜的制备工艺及基本性能 | 第34-36页 |
| ·成分对PtCo合金薄膜结构和性能的影响 | 第36-39页 |
| ·生长温度对Pt_3Co薄膜性能的影响 | 第39页 |
| ·薄膜厚度变化对Pt_3Co薄膜磁光性能的影响 | 第39-41页 |
| ·Pt_3Co薄膜的温度特性 | 第41-42页 |
| ·TbFeCo薄膜的研究 | 第42-50页 |
| ·溅射功率对TbFeCo薄膜性能的影响 | 第42-44页 |
| ·不同Ar气压强对TbFeCo薄膜性能的影响 | 第44-46页 |
| ·TbFeCo薄膜的温度特性 | 第46-50页 |
| ·NdGdFeCo薄膜的研究 | 第50-54页 |
| ·NdGdFeCo薄膜的温度特性 | 第50-52页 |
| ·不同组成NdGdFeCo薄膜的Kerr谱 | 第52-54页 |
| ·小结 | 第54页 |
| ·双层耦合薄膜的制备与性能研究 | 第54-63页 |
| ·PtCo/TbFeCo耦合薄膜 | 第54-59页 |
| ·PtCo/TbFeCo薄膜的结构及各层薄膜的磁性参数 | 第55页 |
| ·不同PtCo组成对耦合薄膜性能的影响 | 第55-59页 |
| ·NdGdFeCo/TbFcCo耦合薄膜 | 第59-62页 |
| ·NdGdFeCo/TbFeCo薄膜的结构及各层薄膜的磁性参数 | 第59-60页 |
| ·NdGdFeCo/TbFeCo交换耦合双层薄膜的磁光性质 | 第60-62页 |
| ·小结 | 第62-63页 |
| 第四章 主要结论 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-75页 |
| 发表论文 | 第75-78页 |
