含金属纳米线多孔铝膜的偏振特性
| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-17页 |
| ·纳米材料 | 第7-10页 |
| ·纳米材料的基本内涵 | 第7-8页 |
| ·纳米材料的制备方法 | 第8-9页 |
| ·纳米材料的分析方法 | 第9-10页 |
| ·模板法制备纳米材料研究进展 | 第10-13页 |
| ·多孔铝(PAA)模板概述 | 第10-11页 |
| ·多孔铝模板制备纳米材料的常用方法 | 第11-13页 |
| ·偏振器件及其研究进展 | 第13-15页 |
| ·偏振器件的类型 | 第13-14页 |
| ·微型偏振器件的研究进展 | 第14-15页 |
| ·本课题的研究内容和意义 | 第15-17页 |
| ·含金属多孔铝膜微偏振器件的研究现状 | 第15页 |
| ·本课题的主要内容与意义 | 第15-17页 |
| 第二章 含金属纳米线多孔铝膜的偏振原理及测量方法 | 第17-28页 |
| ·引言 | 第17页 |
| ·金属纳米线阵列的起偏机制 | 第17-19页 |
| ·金属线栅型偏振器的偏振原理 | 第17-19页 |
| ·金属纳米线阵列的起偏机制 | 第19页 |
| ·含金属纳米线多孔铝膜偏振特性的理论研究 | 第19-25页 |
| ·理论模型 | 第20-21页 |
| ·P分量的光学损耗 | 第21-22页 |
| ·S分量的光学损耗 | 第22-23页 |
| ·样品的消光比 | 第23-25页 |
| ·样品偏振特性的测试方法 | 第25-27页 |
| ·小结 | 第27-28页 |
| 第三章 含一维金属纳米线多孔铝膜的偏振特性 | 第28-40页 |
| ·样品的制备 | 第28-32页 |
| ·多孔铝模板的制备 | 第28-30页 |
| ·金属纳米线的电化学沉积 | 第30-32页 |
| ·Cu/PAA的结构与表征 | 第32-34页 |
| ·样品的形貌特征和X射线衍射图谱 | 第32-33页 |
| ·样品的透射光谱图 | 第33-34页 |
| ·模板孔径变化对Cu/PAA结构偏振性能的影响 | 第34-39页 |
| ·模板制备电压对Cu/PAA偏振性能的影响 | 第34-37页 |
| ·模板扩孔对Cu/PAA偏振性能的影响 | 第37-39页 |
| ·小结 | 第39-40页 |
| 第四章 含分枝铜纳米线多孔铝膜的偏振特性 | 第40-49页 |
| ·引言 | 第40-41页 |
| ·分枝多孔铝模板的生长机制与样品制备过程 | 第41-43页 |
| ·分枝多孔铝模板的生长机制 | 第41-42页 |
| ·分枝多孔铝模板的制备 | 第42-43页 |
| ·分枝状铜纳米线的制备及样品的后处理 | 第43页 |
| ·含分枝Cu纳米线多孔铝膜的结构与偏振性质 | 第43-48页 |
| ·样品的结构表征 | 第43-44页 |
| ·分枝结构多孔铝的光学性质 | 第44-45页 |
| ·含Y形Cu纳米线多孔铝膜的偏振性质 | 第45-47页 |
| ·分析与讨论 | 第47-48页 |
| ·小结 | 第48-49页 |
| 全文总结 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-61页 |
| 在校期间的研究成果及发表的学术论文 | 第61-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
