| 摘要 | 第1-9页 |
| Abstract | 第9-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-28页 |
| ·概述 | 第12-14页 |
| ·InN 材料的基本性质 | 第14-15页 |
| ·GaN 的基本性质及应用 | 第15-22页 |
| ·In 和In_2O_3 的基本性质 | 第22-23页 |
| ·纳米微粒的基本理论与基本特性 | 第23-26页 |
| ·研究课题的选取 | 第26-28页 |
| 第二章 样品的制备及测试 | 第28-33页 |
| ·InN 粉末的制备 | 第28-29页 |
| ·InN 薄膜的制备 | 第29-30页 |
| ·测试方法介绍 | 第30-33页 |
| 第三章 氮化铟粉末结构特性研究 | 第33-38页 |
| ·氮化铟粉末的结构分析 | 第33-36页 |
| ·氮化铟粉末的成分分析 | 第36-38页 |
| 第四章 氮化铟粉末的稳定性研究 | 第38-45页 |
| ·氮化铟粉末在空气气氛中的热稳定性 | 第38-42页 |
| ·氮化铟粉末在氮气气氛中的热稳定性 | 第42-45页 |
| 第五章 氮化铟薄膜的结构和形貌 | 第45-50页 |
| ·氮化铟薄膜的制备 | 第45-48页 |
| ·氮化铟薄膜的表面形貌 | 第48-50页 |
| 第六章 GaN 薄膜的结构及形貌的研究 | 第50-62页 |
| ·氨化Si 基Ga_2O_3/In 制备GaN 薄膜 | 第50-56页 |
| ·氨化Si 基Ga_2O_3/In_2O_3 制备GaN 薄膜 | 第56-62页 |
| 第七章 结论 | 第62-65页 |
| ·InN 粉末的制备及特性研究 | 第62页 |
| ·InN 粉末的稳定性研究 | 第62页 |
| ·InN 薄膜的性质 | 第62-63页 |
| ·Si 基GaN/In 氮化镓薄膜的性质 | 第63页 |
| ·Si 基GaN/In_2O_3氮化镓薄膜的性质 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 攻读硕士学位期间发表的文章 | 第70-72页 |
| 致谢 | 第72页 |