| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 1 绪论 | 第7-9页 |
| ·研究背景 | 第7-8页 |
| ·本文的结构安排 | 第8-9页 |
| 2 有限元法的基本原理及应用 | 第9-17页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·有限元法的基本原理 | 第10-15页 |
| ·电磁场边值问题 | 第10页 |
| ·伽辽金加权余量法与里兹变分法 | 第10-11页 |
| ·有限元法的步骤 | 第11-13页 |
| ·完全匹配层(PML)概念 | 第13-14页 |
| ·有限元线性系统的特性 | 第14-15页 |
| ·雷达散射截面的计算 | 第15-17页 |
| 3 金属旋转对称体的散射 | 第17-40页 |
| ·入射场的推导 | 第17-20页 |
| ·PML的选取 | 第20-21页 |
| ·变分方程 | 第21-22页 |
| ·金属旋转对称体各矩阵元素的生成 | 第22-25页 |
| ·金属强加源 | 第25-27页 |
| ·RCS的计算 | 第27-32页 |
| ·数值结果与分析 | 第32-40页 |
| ·理想金属球双站RCS与Mier Series比较 | 第32-33页 |
| ·圆锥加半球双站RCS比较 | 第33-34页 |
| ·复杂结构的单站RCS的比较 | 第34-40页 |
| 4 均匀介质旋转对称体的散射 | 第40-59页 |
| ·均匀介质旋转对称体的散射 | 第40-45页 |
| ·均匀介质旋转对称体的公式推导 | 第40-42页 |
| ·各矩阵元素的生成 | 第42-45页 |
| ·均匀介质旋转对称体数值结果与分析 | 第45-49页 |
| ·理想介质球双站RCS与Mier Series比较 | 第45-47页 |
| ·圆锥加半球双站RCS比较 | 第47-49页 |
| ·金属旋转体有涂层时的散射分析 | 第49-56页 |
| ·金属加涂层旋转对称体的公式推导 | 第49-52页 |
| ·各矩阵元素的生成 | 第52-56页 |
| ·金属加涂层数值结果与分析 | 第56-59页 |
| ·理想金属球双站RCS与Mier Series比较 | 第56-57页 |
| ·复杂结构金属加涂层双站RCS比较 | 第57-59页 |
| 5 结论和展望 | 第59-61页 |
| ·本文的主要工作 | 第59页 |
| ·研究工作展望 | 第59-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-64页 |
