| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 1 绪论 | 第7-11页 |
| ·课题背景 | 第7-10页 |
| ·常见面形误差测量方法简介 | 第7页 |
| ·三表面干涉 | 第7-8页 |
| ·相干长度与光谱带宽之间的关系 | 第8-10页 |
| ·薄膜干涉滤光片 | 第10页 |
| ·论文的主要研究任务 | 第10-11页 |
| 2 膜系设计 | 第11-28页 |
| ·干涉截止滤光片 | 第11-13页 |
| ·带通滤光片 | 第13-17页 |
| ·多半波滤光片 | 第17-23页 |
| ·膜系计算 | 第20-23页 |
| ·薄膜滤光片的软件模拟与优化 | 第23-27页 |
| ·光学薄膜设计软件的现状 | 第23-24页 |
| ·薄膜滤光片的TFCalc模拟与优化 | 第24-27页 |
| 本章小结 | 第27-28页 |
| 3 镀膜设备与工艺 | 第28-44页 |
| ·PTK90S镀膜机简介 | 第28页 |
| ·镀膜材料选取 | 第28-29页 |
| ·二氧化钛 | 第29页 |
| ·二氧化硅 | 第29页 |
| ·镀膜工艺设置 | 第29-43页 |
| ·材料的主要光学参数 | 第29-32页 |
| ·折射率 | 第29-31页 |
| ·消光系数 | 第31-32页 |
| ·影响材料光学参数的主要工艺因素 | 第32-38页 |
| ·基片温度的影响 | 第32-34页 |
| ·真空室气压及反应气体分压的影响 | 第34-36页 |
| ·沉积速率及是否离子源辅助的影响 | 第36-38页 |
| ·IC/5工艺因素TF( Tooling Factor)设置 | 第38-41页 |
| ·源材料束流的几何分布 | 第38-39页 |
| ·工艺因素的计算 | 第39页 |
| ·工艺因素的修正 | 第39-41页 |
| ·薄膜材料工艺文件的制作 | 第41-43页 |
| 本章小结 | 第43-44页 |
| 4 薄膜滤光片性能测试 | 第44-51页 |
| ·滤光片的光谱测量 | 第44-48页 |
| ·滤光片的相干长度测量 | 第48-50页 |
| ·两表面干涉条纹分析 | 第50-51页 |
| 本章小结 | 第51-52页 |
| 全文小结 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-57页 |
| 附录 | 第57-59页 |