精密运动平台高精度PID控制器研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·光刻技术的发展现状及趋势 | 第9-12页 |
| ·国际主流光刻技术的发展现状及趋势 | 第10-11页 |
| ·国内光刻技术的发展现状及趋势 | 第11-12页 |
| ·光刻机精密工件台技术概述 | 第12-18页 |
| ·步进扫描式光刻机整机结构与工作原理 | 第12-13页 |
| ·步进扫描式光刻机工件台技术发展现状 | 第13-15页 |
| ·精密工件台伺服系统控制策略 | 第15-18页 |
| ·课题来源及研究意义 | 第18-19页 |
| ·课题来源 | 第18页 |
| ·研究意义 | 第18页 |
| ·本文研究技术路线与主要内容 | 第18-19页 |
| 第二章 工件台宏动定位系统数学模型 | 第19-36页 |
| ·概述 | 第19页 |
| ·光刻机隔振试验平台结构 | 第19-22页 |
| ·光刻机隔振试验平台整体结构 | 第19-20页 |
| ·精密工件台控制系统结构 | 第20-21页 |
| ·光刻机隔振试验平台相关技术参数 | 第21-22页 |
| ·硅片台伺服系统数学模型 | 第22-32页 |
| ·交流永磁伺服电机的矢量控制原理 | 第22-25页 |
| ·交流永磁伺服电机数学模型 | 第25-26页 |
| ·硅片台伺服系统其它环节的数学模型 | 第26-28页 |
| ·交流永磁伺服电机电流控制方式 | 第28-30页 |
| ·硅片台伺服系统仿真模型的建立 | 第30-32页 |
| ·掩模台伺服系统数学模型 | 第32-35页 |
| ·直线电机数学模型 | 第32-34页 |
| ·掩模台仿真模型的建立 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第三章 模糊PID控制 | 第36-52页 |
| ·概述 | 第36-37页 |
| ·模糊控制原理 | 第37-39页 |
| ·模糊控制系统结构 | 第37-38页 |
| ·模糊推理过程的步骤 | 第38-39页 |
| ·增量式模糊控制 | 第39页 |
| ·模糊PID控制器设计 | 第39-47页 |
| ·模糊PID控制器结构 | 第39-40页 |
| ·PID控制器参数特性及整定方法 | 第40-41页 |
| ·模糊控制规则的制定 | 第41-44页 |
| ·隶属度函数、量化因子、比例因子的选择 | 第44-47页 |
| ·仿真分析 | 第47-51页 |
| ·仿真结果 | 第48-51页 |
| ·结果分析 | 第51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第四章 模糊PID控制实验研究 | 第52-60页 |
| ·实验目的及设备 | 第52页 |
| ·模糊PID控制器编程与实现 | 第52-56页 |
| ·模糊控制表的制定 | 第52-54页 |
| ·模糊控制器程序的编制 | 第54-56页 |
| ·实验结果 | 第56-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第五章 基于重复控制的PID控制器设计 | 第60-69页 |
| ·概述 | 第60-61页 |
| ·重复控制的原理 | 第61-62页 |
| ·重复控制系统的稳定性 | 第62-64页 |
| ·重复控制器设计 | 第64-67页 |
| ·低通滤波器截止频率的计算 | 第64-66页 |
| ·基于重复控制的混合控制器设计 | 第66-67页 |
| ·仿真结果及分析 | 第67-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 第六章 全文总结 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 攻读硕士学位期间主要的研究成果 | 第76页 |
