邻苯二酚修饰树脂的合成及其硼吸附性能研究
摘要 | 第3-4页 |
abstract | 第4页 |
第一章 文献综述 | 第8-21页 |
1.1 硼 | 第8-10页 |
1.1.1 硼的含量 | 第8页 |
1.1.2 硼的存在形式 | 第8页 |
1.1.3 硼的工业应用 | 第8-9页 |
1.1.4 硼对植物的影响 | 第9页 |
1.1.5 硼对动物和人的影响 | 第9页 |
1.1.6 硼危害标准 | 第9-10页 |
1.2 除硼方法 | 第10-20页 |
1.2.1 沉降法 | 第11页 |
1.2.2 氧化物吸附法 | 第11-12页 |
1.2.3 反渗透法 | 第12页 |
1.2.4 聚合物过滤 | 第12-13页 |
1.2.5 AMF | 第13页 |
1.2.6 硼选择性吸附树脂 | 第13-18页 |
1.2.7 新型无机硅载体吸附剂 | 第18-19页 |
1.2.8 新型生物基质吸附剂 | 第19-20页 |
1.3 本文研究目的和研究内容 | 第20-21页 |
第二章 邻苯二酚修饰树脂的合成 | 第21-33页 |
2.1 合成路线设计 | 第21-24页 |
2.1.1 邻苯二酚基团 | 第21-23页 |
2.1.2 Merrifield 树脂 | 第23页 |
2.1.3 合成路线及反应机理 | 第23-24页 |
2.2 实验试剂及仪器 | 第24-26页 |
2.2.1 实验试剂 | 第24-25页 |
2.2.2 实验仪器 | 第25-26页 |
2.3 实验监测方法 | 第26页 |
2.3.1 反应进程监测 | 第26页 |
2.3.2 产物树脂鉴定 | 第26页 |
2.4 合成实验过程 | 第26-28页 |
2.4.1 羟基的保护 | 第26-27页 |
2.4.2 侧链的合成 | 第27页 |
2.4.3 树脂的连接及羟基去保护 | 第27-28页 |
2.5 合成过程影响因素研究 | 第28-30页 |
2.5.1 缚酸剂的影响 | 第28页 |
2.5.2 树脂载体的影响 | 第28-29页 |
2.5.3 侧链与树脂投料比影响 | 第29-30页 |
2.6 合成树脂表征 | 第30-32页 |
2.6.1 傅里叶红外光谱分析 | 第30-31页 |
2.6.2 扫描电镜分析 | 第31-32页 |
2.7 本章小结 | 第32-33页 |
第三章 树脂硼吸附性能研究 | 第33-52页 |
3.1 吸附剂性能参数 | 第33-34页 |
3.2 实验试剂及仪器 | 第34-35页 |
3.2.1 实验试剂 | 第34页 |
3.2.2 实验仪器 | 第34-35页 |
3.3 硼浓度分析方法 | 第35-36页 |
3.3.1 滴定原理 | 第35页 |
3.3.2 甘露醇用量研究 | 第35-36页 |
3.4 吸附容量研究 | 第36-41页 |
3.4.1 不同合成树脂的吸附量研究 | 第36-38页 |
3.4.2 吸附等温线研究 | 第38-41页 |
3.5 吸附动力学研究 | 第41-47页 |
3.5.1 实验步骤 | 第41-42页 |
3.5.2 实验结果 | 第42页 |
3.5.3 吸附动力学模型研究 | 第42-44页 |
3.5.4 吸附传质扩散模型研究 | 第44-47页 |
3.6 pH 对吸附影响研究 | 第47-49页 |
3.6.1 实验步骤 | 第47页 |
3.6.2 实验结果与讨论 | 第47-49页 |
3.7 树脂洗脱再生性能研究 | 第49-50页 |
3.7.1 实验步骤 | 第49页 |
3.7.2 实验结果与讨论 | 第49-50页 |
3.8 本章小结 | 第50-52页 |
第四章 硼吸附机理研究 | 第52-59页 |
4.1 实验试剂及仪器 | 第52页 |
4.2 硼同位素丰度测定方法 | 第52-54页 |
4.2.1 硼同位素线性范围的确定 | 第52-53页 |
4.2.2 测定精度的确定 | 第53页 |
4.2.3 样品中硼同位素丰度的测定 | 第53-54页 |
4.3 树脂吸附络合比测定 | 第54-56页 |
4.3.1 实验步骤 | 第54页 |
4.3.2 实验结果与讨论 | 第54-56页 |
4.4 硼同位素吸附选择性实验 | 第56-58页 |
4.4.1 硼同位素分离机理分析 | 第56-57页 |
4.4.2 实验步骤 | 第57页 |
4.4.3 实验结果与讨论 | 第57-58页 |
4.5 本章小结 | 第58-59页 |
第五章 结论与展望 | 第59-60页 |
5.1 结论 | 第59页 |
5.2 展望 | 第59-60页 |
参考文献 | 第60-67页 |
附录:核磁谱图 | 第67-68页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第68-69页 |
致谢 | 第69页 |