| 目录 | 第3-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第7-15页 |
| 1.1 铁电材料概述 | 第7-8页 |
| 1.2 铁电聚合物概述 | 第8-9页 |
| 1.3 铁电薄膜的特点及其应用 | 第9-10页 |
| 1.4 铁电场效应晶体管(FeFET) | 第10-11页 |
| 1.5 铁电薄膜的可靠性问题 | 第11-14页 |
| 1.5.1 极化疲劳 | 第12-13页 |
| 1.5.2 印记失效 | 第13页 |
| 1.5.3 极化保持性能丧失 | 第13-14页 |
| 1.6 本论文研究的内容 | 第14-15页 |
| 第二章 铁电薄膜的制备及表征 | 第15-22页 |
| 2.1 P(VDF-TrFE)溶液的配制 | 第15页 |
| 2.2 P(VDF-TrFE)铁电薄膜的制备 | 第15-16页 |
| 2.3 原子力显微镜(AFM)薄膜表征 | 第16-18页 |
| 2.3.1 原子力显微镜(AFM)的原理 | 第16-17页 |
| 2.3.2 P(VDF-TrFE)薄膜的AFM表面形貌 | 第17-18页 |
| 2.3.3 薄膜厚度测量 | 第18页 |
| 2.4 P(VDF-TrFE)铁电薄膜的电学表征 | 第18-21页 |
| 2.4.1 极化翻转电流和电滞回线 | 第19-20页 |
| 2.4.2 极化保持性能电学表征 | 第20页 |
| 2.4.3 极化疲劳的电学表征 | 第20-21页 |
| 2.5 本章小结 | 第21-22页 |
| 第三章 柔性基板弯曲对铁电薄膜电学性能的影响 | 第22-32页 |
| 3.1 实验样品制备 | 第22页 |
| 3.2 样品形貌AFM表征 | 第22-23页 |
| 3.3 实验结果与讨论 | 第23-31页 |
| 3.3.1 基板弯曲对铁电膜矫顽场和剩余极化的影响 | 第23-25页 |
| 3.3.2 基板弯曲对铁电膜电学保持性能的影响 | 第25-29页 |
| 3.3.3 基板弯曲对铁电膜疲劳特性的影响 | 第29-30页 |
| 3.3.4 基板弯曲对铁电膜漏电流的影响 | 第30-31页 |
| 3.4 本章小结 | 第31-32页 |
| 第四章 铁电/缓冲层复合电容结构电学性能的改善 | 第32-40页 |
| 4.1 实验样品制备 | 第32-33页 |
| 4.2 样品形貌AFM表征 | 第33-35页 |
| 4.3 实验结果与讨论 | 第35-39页 |
| 4.3.1 样品厚度测试 | 第35-36页 |
| 4.3.2 复合结构等效矫顽电压计算 | 第36页 |
| 4.3.3 单层和复合结构铁电膜滞回线比较 | 第36-37页 |
| 4.3.4 单层和复合结构铁电膜电学保持性能比较 | 第37-39页 |
| 4.3.5 单层和复合结构铁电膜漏电流比较 | 第39页 |
| 4.4 本章小结 | 第39-40页 |
| 第五章 铁电场效应晶体管(FeFET)结构的输出和转移特性 | 第40-54页 |
| 5.1 实验样品制备 | 第41-42页 |
| 5.2 样品形貌AFM表征 | 第42-43页 |
| 5.3 实验结果与讨论 | 第43-53页 |
| 5.3.1 FeFET氧化物半导体载流子迁移率和闽值电压的计算 | 第43-45页 |
| 5.3.2 IZO-FeFET的输出特性和转移特性 | 第45-48页 |
| 5.3.3 IWO-FeFET的输出特性和转移特性 | 第48-50页 |
| 5.3.4 P(VDF-TrFE)薄膜对阈值电压的调节作用 | 第50-51页 |
| 5.3.5 器件可靠性问题 | 第51-53页 |
| 5.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 第六章 全文结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
