| 中文摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第13-22页 |
| 1.1 衍射光栅的发展概述及其分类 | 第13-14页 |
| 1.2 全息光栅及全息闪耀光栅的发展历史 | 第14-15页 |
| 1.3 中阶梯光栅的研究现状 | 第15-17页 |
| 1.4 傅里叶合成曝光思想的由来 | 第17页 |
| 1.5 金属线栅偏振器的研究进展 | 第17-19页 |
| 1.6 本文的研究内容 | 第19-22页 |
| 第二章 傅里叶合成曝光的理论基础 | 第22-31页 |
| 2.1 光刻胶的特性 | 第22-24页 |
| 2.2 光刻胶曝光、显影的数学模型 | 第24-28页 |
| 2.2.1 光刻胶中光强分布计算 | 第24-25页 |
| 2.2.2 显影速率的计算 | 第25-28页 |
| 2.3 傅里叶分解及合成曝光原理 | 第28-30页 |
| 2.4 本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 金属线栅偏振器的理论基础 | 第31-47页 |
| 3.1 亚波长光栅矢量算法比较 | 第31-32页 |
| 3.2 时域有限差分法简介 | 第32-42页 |
| 3.2.1 FDTD的Yee氏网格 | 第32-33页 |
| 3.2.2 Maxwell方程FDTD的差分格式 | 第33-35页 |
| 3.2.3 一维问题 | 第35-36页 |
| 3.2.4 二维问题 | 第36-37页 |
| 3.2.5 三维问题 | 第37-41页 |
| 3.2.6 解的稳定性 | 第41页 |
| 3.2.7 数值色散 | 第41-42页 |
| 3.3 Lumerical FDTD solutions软件特性介绍 | 第42-43页 |
| 3.4 金属线栅偏振特性的等效折射率解释 | 第43-46页 |
| 3.5 本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 全息中阶梯光栅的制备研究 | 第47-62页 |
| 4.1 全息中阶梯光栅曝光光路设计 | 第47-54页 |
| 4.1.1 CCD监测系统 | 第48-51页 |
| 4.1.2 压电陶瓷位相调节系统 | 第51-52页 |
| 4.1.3 曝光过程监测系统 | 第52-54页 |
| 4.2 全息中阶梯光栅的制作工艺研究 | 第54-59页 |
| 4.2.1 基片预处理 | 第54-56页 |
| 4.2.2 匀胶 | 第56-57页 |
| 4.2.3 前烘 | 第57-58页 |
| 4.2.4 曝光、显影及后烘 | 第58-59页 |
| 4.3 实验结果与讨论 | 第59-61页 |
| 4.5 本章小结 | 第61-62页 |
| 第五章 金属线栅偏振器特性与全息制作工艺研究 | 第62-81页 |
| 5.1 金属线栅偏振器的指标及结构参数 | 第62-63页 |
| 5.2 单层金属线栅偏振器的特性研究 | 第63-74页 |
| 5.2.1 线栅周期对线栅性能的影响 | 第64-65页 |
| 5.2.2 金属材料对线栅性能的影响 | 第65-66页 |
| 5.2.3 基底材料对线栅性能的影响 | 第66-67页 |
| 5.2.4 槽型对线栅性能的影响 | 第67-69页 |
| 5.2.5 占空比对线栅性能的影响 | 第69-70页 |
| 5.2.6 槽深对线栅性能的影响 | 第70-72页 |
| 5.2.7 入射角偏差对金属线栅偏振性能的影响 | 第72-74页 |
| 5.3 红外金属线栅偏振器的设计与制备 | 第74-77页 |
| 5.3.1 近红外波段金属线栅偏振器的设计 | 第74-75页 |
| 5.3.2 金属线栅偏振器的制作工艺 | 第75-77页 |
| 5.4 偏振透过率的测试与误差分析 | 第77-80页 |
| 5.5 本章小结 | 第80-81页 |
| 第六章 双层金属线栅结构的特性及应用研究 | 第81-102页 |
| 6.1 引言 | 第81页 |
| 6.2 结构参数对双层线栅性能的影响 | 第81-87页 |
| 6.3 紫外可调谐型金属线栅偏振器 | 第87-91页 |
| 6.4 基于双层光栅的极低反射表面 | 第91-98页 |
| 6.4.1 减反射表面工作原理 | 第91-93页 |
| 6.4.2 单层亚波长光栅的减反射效果分析 | 第93-95页 |
| 6.4.3 二维光栅结构的减反射特性 | 第95-97页 |
| 6.4.4 双层光栅结构的减反射特性 | 第97-98页 |
| 6.5 基于双层金属线栅的折射率传感器 | 第98-101页 |
| 6.6 本章小结 | 第101-102页 |
| 第七章 总结与展望 | 第102-104页 |
| 参考文献 | 第104-118页 |
| 在读期间公开发表的论文和承担科研项目及取得成果 | 第118-120页 |
| 致谢 | 第120页 |