摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5页 |
第1章 文献综述 | 第9-25页 |
1.1 研究背景 | 第9-23页 |
1.1.1 多晶硅及其性质 | 第9-10页 |
1.1.2 多晶硅主要生产工艺 | 第10-13页 |
1.1.2.1 西门子法 | 第10-11页 |
1.1.2.2 硅烷法 | 第11-13页 |
1.1.2.3 冶金法 | 第13页 |
1.1.3 国内多晶硅发展历史 | 第13-16页 |
1.1.4 多晶硅生产过程中副产物的产生及影响 | 第16页 |
1.1.5 SiCl_4的处理工艺 | 第16-20页 |
1.1.5.1 生产白炭黑 | 第16-17页 |
1.1.5.2 有机硅产品 | 第17页 |
1.1.5.3 生产光纤 | 第17页 |
1.1.5.4 氢化生产SiHCl_3 | 第17-20页 |
1.1.6 国内冷氢化研究背景及进展 | 第20-21页 |
1.1.7 冷氢化工艺催化剂应用现状 | 第21-23页 |
1.2 低温氢化及目前所用催化剂存在的不足 | 第23-24页 |
1.3 本文研究目的 | 第24-25页 |
第2章 操作参数对低温氢化摩尔转化率的影响 | 第25-47页 |
2.1 SiCl_4氢 化机理 | 第25-26页 |
2.2 SiCl_4氢 化热力学分析 | 第26-30页 |
2.3 机理及热力学分析小结 | 第30页 |
2.4 实验系统的建立 | 第30-40页 |
2.4.1 实验设备 | 第32-35页 |
2.4.2 系统操作步骤 | 第35-39页 |
2.4.2.1 活化干燥器加硅粉及催化剂 | 第35页 |
2.4.2.2 硅粉催化剂活化干燥 | 第35-36页 |
2.4.2.3 氢化系统开车 | 第36-37页 |
2.4.2.4 氢化系统正常运行 | 第37-38页 |
2.4.2.5 氢化系统停车和排渣 | 第38-39页 |
2.4.3 取样、检测及所用设备 | 第39-40页 |
2.4.3.1 取样 | 第39页 |
2.4.3.2 检测分析 | 第39-40页 |
2.4.3.3 检测用设备 | 第40页 |
2.5 冷氢化工艺参数的研究 | 第40-46页 |
2.5.1 反应压力对转化率的影响 | 第40-41页 |
2.5.2 反应温度对反应转化率的影响 | 第41-42页 |
2.5.3 H2/SiCl_4配 比对转化率的影响 | 第42-43页 |
2.5.4 Si粉/催化剂质量配比对转化率的影响 | 第43-44页 |
2.5.5 混合气流速对转化率的影响 | 第44-45页 |
2.5.6 硅粉粒度对转化率的影响 | 第45页 |
2.5.7 硅粉料层高度对转化率的影响 | 第45-46页 |
2.6 小结 | 第46-47页 |
第3章 镍铜催化剂的选型及工艺评价 | 第47-57页 |
3.1 镍催化剂 | 第47-50页 |
3.1.1 镍催化剂选择 | 第48-49页 |
3.1.2 镍催化剂的实验研究 | 第49-50页 |
3.2 铜催化剂 | 第50-52页 |
3.2.1 铜催化剂选择 | 第50-51页 |
3.2.2 铜基催化剂的实验研究 | 第51-52页 |
3.3 镍铜催化剂 | 第52-53页 |
3.3.1 镍铜催化剂的选择 | 第52页 |
3.3.2 镍铜催化剂的实验研究 | 第52-53页 |
3.4 结果统计与分析 | 第53-56页 |
3.4.1 结果统计 | 第53-56页 |
3.4.2 结果分析 | 第56页 |
3.5 小结 | 第56-57页 |
第4章 结论及展望 | 第57-59页 |
参考文献 | 第59-63页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第63-65页 |
致谢 | 第65-66页 |