| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第13-30页 |
| 1.1 引言 | 第13-14页 |
| 1.2 氧化石墨烯 | 第14-18页 |
| 1.2.1 氧化石墨烯的制备 | 第14-15页 |
| 1.2.2 氧化石墨烯的结构 | 第15-16页 |
| 1.2.3 氧化石墨烯的化学性质 | 第16-18页 |
| 1.3 氧化石墨烯基膜的制备 | 第18-20页 |
| 1.3.1 真空过滤法 | 第18-19页 |
| 1.3.2 浸涂法 | 第19页 |
| 1.3.3 旋涂法 | 第19-20页 |
| 1.3.4 喷涂法 | 第20页 |
| 1.3.5 层层自主装法 | 第20页 |
| 1.4 氧化石墨烯基膜在水处理领域的应用 | 第20-28页 |
| 1.4.1 氧化石墨烯膜 | 第21-24页 |
| 1.4.2 改性氧化石墨烯膜 | 第24-27页 |
| 1.4.3 含氧化石墨烯杂化膜 | 第27-28页 |
| 1.5 课题的提出 | 第28-30页 |
| 第2章 乙二胺交联氧化石墨烯层状薄膜的制备及染料分离研究 | 第30-45页 |
| 2.1 前言 | 第30页 |
| 2.2 实验内容 | 第30-34页 |
| 2.2.1 实验材料 | 第30-31页 |
| 2.2.2 PAN超滤膜的改性 | 第31页 |
| 2.2.3 GO-EDA层状薄膜的制备 | 第31页 |
| 2.2.4 结构与性质表征 | 第31-32页 |
| 2.2.4.1 扫描电镜分析(SEM) | 第31-32页 |
| 2.2.4.2 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第32页 |
| 2.2.4.3 广角X射线衍射(XRD) | 第32页 |
| 2.2.4.4 傅里叶红外分析(FTIR) | 第32页 |
| 2.2.5 膜性能测试 | 第32-34页 |
| 2.3 结果和讨论 | 第34-44页 |
| 2.3.1 PAN膜的改性 | 第34页 |
| 2.3.2 GO-EDA层状薄膜的表征 | 第34-38页 |
| 2.3.2.1 颜色变化 | 第34-36页 |
| 2.3.2.2 XPS分析 | 第36-38页 |
| 2.3.2.3 FTIR分析 | 第38页 |
| 2.3.3 GO-EDA层状薄膜结构的表征 | 第38-40页 |
| 2.3.3.1 SEM | 第38-39页 |
| 2.3.3.2 XRD | 第39-40页 |
| 2.3.4 GO-EDA层状薄膜性能的优化 | 第40-44页 |
| 2.3.4.1 铸膜液质量 | 第41页 |
| 2.3.4.2 后处理温度 | 第41-42页 |
| 2.3.4.3 后处理时间 | 第42-43页 |
| 2.3.4.4 抽滤时间 | 第43-44页 |
| 2.4 本章小结 | 第44-45页 |
| 第3章 多壁纳米管交联氧化石墨烯膜的制备及分离放射性离子研究 | 第45-65页 |
| 3.1 前言 | 第45-46页 |
| 3.2 实验内容 | 第46-50页 |
| 3.2.1 实验材料 | 第46页 |
| 3.2.2 MWCNTs的改性 | 第46-47页 |
| 3.2.3 MWCNTs-interlinked GO膜的制备 | 第47页 |
| 3.2.4 放射性废水浓缩的测试 | 第47-48页 |
| 3.2.5 放射性废水分离的测试 | 第48-49页 |
| 3.2.6 稳定性实验 | 第49页 |
| 3.2.7 MWCNTs-interlinked GO膜的表征 | 第49-50页 |
| 3.2.7.1 扫描电镜(SEM)分析 | 第49页 |
| 3.2.7.2 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第49页 |
| 3.2.7.3 广角X射线衍射(XRD) | 第49页 |
| 3.2.7.4 傅里叶红外分析(FTIR) | 第49页 |
| 3.2.7.5 离子色谱分析 | 第49页 |
| 3.2.7.6 Zeta电位 | 第49-50页 |
| 3.3 结果和讨论 | 第50-64页 |
| 3.3.1 MWCNTs-COOH的表征 | 第50-53页 |
| 3.3.1.1 分散性对比 | 第50页 |
| 3.3.1.2 SEM | 第50-51页 |
| 3.3.1.3 FITR | 第51-52页 |
| 3.3.1.4 XPS | 第52-53页 |
| 3.3.2 MWCNTs-interlinked GO膜的表征 | 第53-64页 |
| 3.3.2.1 Zeta电位 | 第53页 |
| 3.3.2.2 XPS | 第53-56页 |
| 3.3.2.3 SEM | 第56-57页 |
| 3.3.2.4 XRD | 第57页 |
| 3.3.2.5 膜的稳定性 | 第57-59页 |
| 3.3.2.6 膜性能的测试 | 第59-64页 |
| 3.4 本章小结 | 第64-65页 |
| 第4章 改性单壁纳米管交联氧化石墨烯膜的制备及分离放射性离子研究 | 第65-77页 |
| 4.1 前言 | 第65页 |
| 4.2 实验内容 | 第65-66页 |
| 4.2.1 实验材料 | 第65页 |
| 4.2.2 改性单壁纳米管的制备 | 第65页 |
| 4.2.3 改性单壁纳米管交联氧化石墨烯膜的制备 | 第65-66页 |
| 4.2.4 放射性废水浓缩的测试 | 第66页 |
| 4.2.5 Modified SWCNTs-interlinked GO膜的表征 | 第66页 |
| 4.2.5.1 扫描电镜(SEM)分析 | 第66页 |
| 4.2.5.2 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第66页 |
| 4.2.5.3 广角X射线衍射(XRD) | 第66页 |
| 4.2.5.4 傅里叶红外分析(FTIR) | 第66页 |
| 4.2.5.5 离子色谱分析 | 第66页 |
| 4.3 结果和讨论 | 第66-76页 |
| 4.3.1 改性单壁纳米管结构的表征 | 第66-69页 |
| 4.3.1.1 分散性对比 | 第66-67页 |
| 4.3.1.2 SEM | 第67-68页 |
| 4.3.1.3 FTIR | 第68-69页 |
| 4.3.2 Modified SWCNTs-interlinked GO膜的表征 | 第69-74页 |
| 4.3.2.1 XPS | 第69-71页 |
| 4.3.2.2 SEM | 第71-72页 |
| 4.3.2.3 膜性能的测试 | 第72-74页 |
| 4.3.3 石墨烯基分离机理的探究 | 第74-76页 |
| 4.3.3.1 膜性能与操作压力的关系 | 第74-75页 |
| 4.3.3.2 膜性能与pH的关系 | 第75-76页 |
| 4.4 本章小结 | 第76-77页 |
| 第5章 结论和展望 | 第77-79页 |
| 5.1 全文主要结论 | 第77-78页 |
| 5.2 主要创新点 | 第78页 |
| 5.3 不足与展望 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-85页 |
| 作者简介 | 第85页 |
