| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 综述 | 第10-20页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 稀磁半导体 | 第10-15页 |
| 1.2.1 稀磁半导体概述 | 第10-12页 |
| 1.2.2 氧化铟的结构和基本性质 | 第12-13页 |
| 1.2.3 氧化铟基稀磁半导体的研究现状 | 第13-15页 |
| 1.3 稀磁半导体纳米点的研究进展 | 第15-18页 |
| 1.4 本论文的研究内容 | 第18-20页 |
| 2 样品的制备及分析测试 | 第20-30页 |
| 2.1 前言 | 第20页 |
| 2.2 样品制备 | 第20-24页 |
| 2.2.1 氧化铝模板的制备 | 第20-21页 |
| 2.2.2 靶材的制备 | 第21-22页 |
| 2.2.3 脉冲激光沉积技术 | 第22-24页 |
| 2.3 样品结构与性能表征 | 第24-30页 |
| 2.3.1 薄膜厚度测试 | 第24-25页 |
| 2.3.2 样品表面形貌表征-扫描电子显微镜 | 第25-26页 |
| 2.3.3 原子力显微镜 | 第26页 |
| 2.3.4 X射线衍射分析 | 第26-27页 |
| 2.3.5 X射线光电子谱 | 第27页 |
| 2.3.6 X射线吸收谱 | 第27页 |
| 2.3.7 样品磁学性能测试 | 第27-28页 |
| 2.3.8 样品光学性能测试 | 第28-30页 |
| 3 Fe掺杂In_2O_3薄膜的研究 | 第30-38页 |
| 3.1 引言 | 第30页 |
| 3.2 实验过程 | 第30-31页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第31-36页 |
| 3.3.1 薄膜厚度对Fe掺杂In_2O_3薄膜结构和表面形貌的影响 | 第31-34页 |
| 3.3.2 薄膜厚度对Fe掺杂In_2O_3薄膜磁性的影响 | 第34-36页 |
| 3.3.3 薄膜厚度对Fe掺杂In_2O_3薄膜光学性质的影响 | 第36页 |
| 3.4 本章小结 | 第36-38页 |
| 4 Fe掺杂In_2O_3稀磁半导体纳米点阵列的研究 | 第38-52页 |
| 4.1 引言 | 第38页 |
| 4.2 实验方法 | 第38-41页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第41-50页 |
| 4.3.1 Fe掺杂In_2O_3纳米点阵列的形貌 | 第41-44页 |
| 4.3.2 Fe掺杂In_2O_3纳米点阵列的结构和组成 | 第44-46页 |
| 4.3.3 Fe掺杂In_2O_3纳米点阵列的磁学性质 | 第46-49页 |
| 4.3.4 Fe掺杂In_2O_3纳米点阵列的光学性质 | 第49-50页 |
| 4.4 本章小结 | 第50-52页 |
| 5 结论 | 第52-54页 |
| 致谢 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-62页 |
| 附录 | 第62页 |
| 攻读学位期间发表的论文和专利 | 第62页 |
| 会议摘要 | 第62页 |
| 参加的学术会议 | 第62页 |
