摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
第1章 绪论 | 第14-34页 |
1.1 引言 | 第14页 |
1.2 锆的性质、应用及资源概况 | 第14-18页 |
1.2.1 锆的性质及应用 | 第14-16页 |
1.2.2 锆资源概况 | 第16-18页 |
1.3 锆的生产及精炼现状 | 第18-27页 |
1.3.1 锆的生产现状 | 第18-21页 |
1.3.2 锆的精炼方法 | 第21-25页 |
1.3.3 熔盐电解精炼锆研究现状及存在的问题 | 第25-27页 |
1.4 锆的氯化方法及熔盐中的氯化作用 | 第27-31页 |
1.4.1 锆的氯化方法 | 第27-29页 |
1.4.2 熔盐中的氯化作用 | 第29-31页 |
1.5 本文的研究背景、意义及内容 | 第31-34页 |
1.5.1 研究背景及意义 | 第31-33页 |
1.5.2 研究内容 | 第33-34页 |
第2章 实验部分 | 第34-48页 |
2.1 实验原料及设备 | 第34-35页 |
2.1.1 实验原料 | 第34页 |
2.1.2 实验设备 | 第34-35页 |
2.2 实验装置 | 第35-40页 |
2.2.1 熔盐的选择和预处理 | 第35-36页 |
2.2.2 电解槽装置 | 第36-38页 |
2.2.3 电极的准备和组装 | 第38-40页 |
2.3 电化学测试方法 | 第40-47页 |
2.3.1 循环伏安法 | 第41-43页 |
2.3.2 方波伏安法 | 第43-44页 |
2.3.3 开路计时电位法 | 第44页 |
2.3.4 计时电位法 | 第44-45页 |
2.3.5 极化曲线法 | 第45-47页 |
2.4 样品的表征与分析 | 第47-48页 |
2.4.1 X射线衍射分析(XRD) | 第47页 |
2.4.2 电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-AES) | 第47页 |
2.4.3 扫描电子显微镜(SEM) | 第47页 |
2.4.4 金相显微镜(OM) | 第47-48页 |
第3章 Zr与CuCl的氯化反应过程研究 | 第48-80页 |
3.1 实验内容 | 第48-51页 |
3.1.1 Cu(Ⅰ)在LiCl-KCl-CuCl熔体中的电化学测试 | 第48-49页 |
3.1.2 Zr(Ⅳ)在LiCl-KCl-ZrCl_4熔体中的电化学测试 | 第49-50页 |
3.1.3 Zr与CuCl的氯化反应实验 | 第50-51页 |
3.1.4 氯化生成ZrCl_4的电化学测试 | 第51页 |
3.2 Cu(Ⅰ)在LiCl-KCl-CuCl熔体中的电化学行为研究 | 第51-58页 |
3.2.1 Cu(Ⅰ)在石墨电极上的电化学行为 | 第51-53页 |
3.2.2 Cu(Ⅰ)在钼电极上的电化学行为 | 第53-58页 |
3.3 ZrCl_4在LiCl-KCl熔体中的电化学行为研究 | 第58-60页 |
3.3.1 Zr(Ⅳ)在LiCl-KCl熔体中的循环伏安行为 | 第58-59页 |
3.3.2 Zr(Ⅳ)在LiCl-KCl熔体中的方波伏安行为 | 第59-60页 |
3.3.3 Zr(Ⅳ)在LiCl-KCl熔体中的开路计时电位测试 | 第60页 |
3.4 Zr与CuCl的氯化反应过程研究 | 第60-72页 |
3.4.1 Zr与CuCl的氯化反应热力学计算及反应原理 | 第60-62页 |
3.4.2 利用循环伏安法监测Zr与CuCl氯化反应进程的研究 | 第62-67页 |
3.4.3 利用方波伏安法监测Zr与CuCl氯化反应进程的研究 | 第67-68页 |
3.4.4 利用开路计时电位法监测Zr与CuCl氯化反应进程的研究 | 第68-69页 |
3.4.5 氯化反应过程中铜、锆含量的ICP-AES分析结果 | 第69-71页 |
3.4.6 Zr与CuCl置换反应产物分析 | 第71-72页 |
3.5 氯化生成ZrCl_4的电化学行为研究 | 第72-78页 |
3.5.1 生成ZrCl_4在不同浓度下的循环伏安行为 | 第72-74页 |
3.5.2 生成ZrCl_4在不同浓度下的计时电位测试 | 第74-75页 |
3.5.3 扫速对锆离子氧化还原行为的影响 | 第75-76页 |
3.5.4 不同电位下沉积产物物相分析 | 第76-78页 |
3.6 小结 | 第78-80页 |
第4章 Zr与SnCl_2的氯化反应过程研究 | 第80-102页 |
4.1 实验内容 | 第80-82页 |
4.1.1 Sn(Ⅰ)在LiCl-KCl-SnC_l2熔体的电化学测试 | 第80-81页 |
4.1.2 Zr与SnCl_2的氯化反应实验 | 第81-82页 |
4.2 Sn(Ⅰ)在LiCl-KCl-SnCl_2熔体中的电化学行为研究 | 第82-90页 |
4.2.1 Sn(Ⅱ)在石墨电极上的电化学行为 | 第82-85页 |
4.2.2 Sn(Ⅱ)在钼电极上的电化学行为 | 第85-90页 |
4.3 Zr与SnCl_2的氯化反应过程研究 | 第90-101页 |
4.3.1 Zr与SnCl_2氯化反应的热力学计算 | 第90-91页 |
4.3.2 Zr与SnCl_2氯化反应原理 | 第91-92页 |
4.3.3 利用循环伏安法监测Zr与SnCl_2氯化反应进程的研究 | 第92-96页 |
4.3.4 利用方波伏安法监测Zr与SnCl_2氯化反应进程的研究 | 第96-97页 |
4.3.5 利用开路计时电位法监测Zr与SnCl_2氯化反应进程的研究 | 第97-98页 |
4.3.6 氯化反应过程中锡、锆含量的ICP-AES分析 | 第98-100页 |
4.3.7 Zr与SnCl_2置换反应产物分析 | 第100-101页 |
4.4 小结 | 第101-102页 |
第5章 CuCl-SnCl_2混合熔体中Zr的氯化过程研究 | 第102-120页 |
5.1 实验内容 | 第102-104页 |
5.1.1 CuCl、SnCl_2共存于LiCl-KCl熔体中的电化学测试 | 第102-103页 |
5.1.2 CuCl-SnCl_2混合熔体中Zr的氯化过程 | 第103-104页 |
5.2 CuCl-SnCl_2在LiCl-KCl熔体中的电化学行为研究 | 第104-109页 |
5.2.1 CuCl-SnCl_2在LiCl-KCl熔体中的循环伏安行为 | 第104-106页 |
5.2.2 CuCl-SnCl_2在LiCl-KCl熔体中的方波伏安行为 | 第106-107页 |
5.2.3 CuCl-SnCl_2在LiCl-KCl熔体中的计时电位测试 | 第107-108页 |
5.2.4 CuCl-SnCl_2在LiCl-KCl熔体中的开路计时电位测试 | 第108-109页 |
5.3 CuCl-SnCl_2混合熔体中Zr的氯化反应过程研究 | 第109-119页 |
5.3.1 循环伏安法监测CuCl-SnCl_2混合熔体中Zr的氯化反应进程 | 第109-112页 |
5.3.2 方波伏安法监测CuCl-SnCl_2混合熔体中Zr的氯化反应进程 | 第112-115页 |
5.3.3 氯化反应过程中铜、锡、锆含量的ICP-AES分析结果 | 第115-117页 |
5.3.4 铜、锡比例对氯化反应时间及产物的影响 | 第117-119页 |
5.4 小结 | 第119-120页 |
第6章 Cu、Sn、Zr及其合金阳极溶解行为研究 | 第120-146页 |
6.1 实验内容 | 第120页 |
6.1.1 Cu、Sn、Zr及其合金阳极溶解电位测试 | 第120页 |
6.1.2 Cu-Zr、Cu-Sn-Zr合金恒电位阳极溶解 | 第120页 |
6.2 Cu、Sn、Zr及其合金阳极溶解电位研究 | 第120-133页 |
6.2.1 金属Cu阳极溶解电位研究 | 第120-123页 |
6.2.2 金属Sn阳极溶解电位研究 | 第123-124页 |
6.2.3 金属Zr阳极溶解电位研究 | 第124-128页 |
6.2.4 Cu-Zr及Cu-Sn-Zr合金阳极溶解电位研究 | 第128-133页 |
6.3 Cu-Zr合金的阳极溶解研究 | 第133-140页 |
6.3.1 Cu-Zr合金基体的表面形貌及能谱分析 | 第133-134页 |
6.3.2 Cu-Zr合金在-0.80 V恒电位阳极溶解效果分析 | 第134-138页 |
6.3.3 影响Cu-Zr合金阳极溶解的因素 | 第138-140页 |
6.4 Cu-Sn-Zr合金阳极溶解研究 | 第140-145页 |
6.4.1 Cu-Sn-Zr合金基体的表面形貌及能谱分析 | 第140-141页 |
6.4.2 Cu-Sn-Zr合金在-0.70 V阳极溶解效果分析 | 第141-143页 |
6.4.3 不同溶解时间及电位对合金溶解效果的影响 | 第143-145页 |
6.5 小结 | 第145-146页 |
第7章 结论 | 第146-148页 |
参考文献 | 第148-155页 |
致谢 | 第155-156页 |
攻读博士学位期间撰写和发表的论文 | 第156页 |