| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1 绪论 | 第8-14页 |
| 1.1 引言 | 第8-9页 |
| 1.2 相变光刻原理及现状 | 第9-10页 |
| 1.3 金属玻璃薄膜的发展 | 第10-12页 |
| 1.4 刻蚀方法选择 | 第12-13页 |
| 1.5 本论文的主要研究目的以及内容结构 | 第13-14页 |
| 2 非晶以及晶态单层以及多层AlNiGd金属玻璃材料的制备 | 第14-24页 |
| 2.1 主要的实验设备 | 第14-16页 |
| 2.2 单层AlNiGd金属玻璃材料的制备 | 第16-21页 |
| 2.3 多层AlNiGd金属玻璃材料的制备 | 第21-23页 |
| 2.4 本章小结 | 第23-24页 |
| 3 单层/多层AlNiGd金属玻璃材料刻蚀液的选择以及刻蚀条件的控制 | 第24-31页 |
| 3.1 单层AlNiGd金属玻璃材料刻蚀液的选择 | 第24-26页 |
| 3.2 多层AlNiGd金属玻璃材料刻蚀液的选择 | 第26-27页 |
| 3.3 刻蚀过程中条件的控制 | 第27-29页 |
| 3.4 本章小结 | 第29-31页 |
| 4 金属玻璃材料刻蚀实验 | 第31-36页 |
| 4.1 单层AlNiGd金属玻璃薄膜选择刻蚀比实验 | 第31-33页 |
| 4.2 多层AlNiGd金属玻璃材料的刻蚀 | 第33-35页 |
| 4.3 本章小结 | 第35-36页 |
| 5 相变光刻后单层/多层AlNiGd金属玻璃薄膜湿法刻蚀的研究 | 第36-56页 |
| 5.1 相变光刻/测试光学系统结构及其工作原理 | 第36-38页 |
| 5.2 金属玻璃薄膜材料温度场模拟计算 | 第38-50页 |
| 5.3 相变光刻后AlNiGd金属玻璃薄膜湿法刻蚀的研究 | 第50-55页 |
| 5.4 本章小结 | 第55-56页 |
| 6 全文总结 | 第56-58页 |
| 6.1 研究内容总结 | 第56页 |
| 6.2 进一步研究的展望 | 第56-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 附录1攻读硕士学位期间发表论文与专利目录 | 第63页 |
