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相变存储器单元脉冲I-V特性测量方法及分析

摘要第4-5页
Abstract第5页
1 绪论第8-21页
    1.1 半导体存储器第8-9页
    1.2 非易失性半导体存储器第9-11页
    1.3 相变存储器第11-14页
    1.4 相变存储器单元的电学特性第14-19页
    1.5 本论文研究目的与内容安排第19-21页
2 相变存储器单元的脉冲I-V测量方案研究第21-38页
    2.1 相变存储器单元脉冲I-V测量方法解决方案第21-22页
    2.2 相变存储器单元脉冲I-V测量系统解决方案第22-27页
    2.3 脉冲I-V测量程序设计第27-29页
    2.4 电路原理图和PCB版图设计第29-30页
    2.5 相变存储器样品的工艺结构设计第30-32页
    2.6 相变存储器芯片的封装技术研究第32-36页
    2.7 本章小结第36-38页
3 相变存储器单元的脉冲I-V特性曲线分析第38-49页
    3.1 相变存储器单元I-V特性曲线对比分析第38-39页
    3.2 相变存储器单元脉冲I-V测量实验过程第39-40页
    3.3 相变存储器单元的脉冲I-V特性曲线分析第40-45页
    3.4 相变存储器单元“异常”的脉冲I-V特性曲线分析第45-48页
    3.5 本章小结第48-49页
4 相变存储器单元的阈值开关机理分析第49-60页
    4.1 阈值电压与脉冲宽度、脉冲周期和两态电阻比的关系第49-51页
    4.2 相变材料的阈值开关机理分析第51-54页
    4.3 阈值电压与脉冲宽度和脉冲周期关系分析第54-57页
    4.4 阈值电压与两态电阻比关系分析第57-59页
    4.5 本章小结第59-60页
5 总结与展望第60-62页
    5.1 总结第60-61页
    5.2 展望第61-62页
致谢第62-63页
参考文献第63-66页
附录 攻读学位期间发表论文情况第66页

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