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PCB厂回收铜样制备单质铜的研究

摘要第3-4页
Abstract第4-5页
第一章 绪论第9-22页
    1.1 前言第9页
    1.2 研究背景第9-11页
    1.3 蚀刻液的种类及原理第11-14页
        1.3.1 酸性蚀刻液第11-12页
        1.3.2 碱性蚀刻液第12-13页
        1.3.3 氯化铁蚀刻液第13页
        1.3.4 过硫酸铵蚀刻液第13页
        1.3.5 硫酸/铬酸蚀刻液第13-14页
        1.3.6 硫酸/双氧水蚀刻液第14页
    1.4 蚀刻液回收利用第14-19页
        1.4.1 酸性蚀刻液的回收利用第14-17页
        1.4.2 碱性蚀刻液的回收利用第17-19页
    1.5 国内外的研究现状第19-20页
    1.6 本课题的研究目的与意义第20-22页
        1.6.1 研究意义第20页
        1.6.2 研究目的第20页
        1.6.3 研究内容第20-22页
第二章 原料样品分析第22-30页
    2.1 实验仪器第22页
    2.2 实验药品第22-23页
    2.3 实验表征手段第23-24页
        2.3.0 能量散射(EDX)第23页
        2.3.1 ICP荧光检测第23页
        2.3.2 X射线衍射分析(XRD)第23页
        2.3.3 扫描电子显微镜(SEM)第23页
        2.3.4 铜含量的测定第23-24页
    2.4 原料样品成分分析第24-26页
        2.4.1 原料样品元素种类分析结果第24-25页
        2.4.2 原料样品元素含量分析结果第25-26页
    2.5 原料样品中所含物质分析(XRD)第26-27页
    2.6 原料样品的SEM图谱第27页
    2.7 制定反应方案第27-28页
        2.7.1 酸洗法第27-28页
        2.7.2 氢气还原法第28页
    2.8 本章小结第28-30页
第三章 酸洗法工艺研究第30-41页
    3.1 实验试剂第30页
    3.2 实验仪器第30-31页
    3.3 实验流程第31-32页
    3.4 单因素实验结果分析第32-37页
        3.4.1 硫酸浓度对铜含量的影响第32-34页
        3.4.2 反应时间对铜含量的影响第34-36页
        3.4.3 硫酸用量对铜含量的影响第36-37页
    3.5 正交实验第37-38页
    3.6 最佳反应产物分析第38-39页
        3.6.1 产物XRD分析第38-39页
        3.6.2 产物的SEM图谱第39页
        3.6.3 产物铜含量分析第39页
    3.7 本章小结第39-41页
第四章 氢气还原法提铜工艺第41-55页
    4.1 实验试剂第41页
    4.2 实验仪器第41-42页
    4.3 实验装置第42-43页
    4.4 实验步骤第43-45页
        4.4.1 前期操作第43-44页
        4.4.2 实验操作第44-45页
    4.5 单因素实验结果分析第45-51页
        4.5.1 反应温度对产物铜含量的影响第45-48页
        4.5.2 反应时间对产物铜含量的影响第48-50页
        4.5.3 氢气浓度对产物铜含量的影响第50-51页
    4.6 正交实验第51-52页
    4.7 最佳产物的分析第52-53页
        4.7.1 产物铜含量分析第52页
        4.7.2 产物XRD检测第52-53页
        4.7.3 产物SEM分析第53页
    4.8 本章小结第53-55页
第五章 结论与展望第55-57页
    5.1 结论第55-56页
        5.1.1 样品成分分析第55页
        5.1.2 硫酸还原法提铜第55页
        5.1.3 氢气还原法提铜第55-56页
    5.2 展望第56-57页
致谢第57-58页
参考文献第58-61页

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