X射线梯形反射式单级衍射光栅制作技术研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-20页 |
| 1.1 X射线衍射光栅的发展历史与研究现状 | 第8-15页 |
| 1.1.1 衍射光栅 | 第8-10页 |
| 1.1.2 单级衍射光栅 | 第10-15页 |
| 1.2 X射线衍射光栅的制作技术 | 第15-19页 |
| 1.2.1 全息光刻 | 第15-16页 |
| 1.2.2 X射线光刻 | 第16-18页 |
| 1.2.3 电子束光刻 | 第18-19页 |
| 1.3 论文主要工作与意义 | 第19-20页 |
| 第二章 衍射光栅单级原理 | 第20-32页 |
| 2.1 基尔霍夫衍射理论 | 第20-21页 |
| 2.2 衍射光栅的分光性能 | 第21-25页 |
| 2.2.1 光栅方程 | 第21-22页 |
| 2.2.2 色散本领 | 第22-23页 |
| 2.2.3 色分辨本领 | 第23-24页 |
| 2.2.4 自由光谱范围 | 第24-25页 |
| 2.3 单级衍射光栅原理 | 第25-28页 |
| 2.4 光栅参数设计 | 第28-31页 |
| 2.5 本章小结 | 第31-32页 |
| 第三章 单级衍射光栅微纳制作技术研究 | 第32-43页 |
| 3.1 梯形反射式单级衍射光栅工艺过程 | 第32-35页 |
| 3.2 电子束光刻 | 第35-39页 |
| 3.2.1 电子束光刻简介 | 第35-36页 |
| 3.2.2 电子束抗蚀剂 | 第36-37页 |
| 3.2.3 大面积电子束光刻工艺 | 第37-39页 |
| 3.3 ICP等离子体刻蚀 | 第39-42页 |
| 3.3.1 等离子体刻蚀简介 | 第39-40页 |
| 3.3.2 ICP刻蚀栅线工艺 | 第40-42页 |
| 3.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 低温金-金键合工艺 | 第43-52页 |
| 4.1 引言 | 第43-44页 |
| 4.2 键合难点及解决办法 | 第44页 |
| 4.3 等离子体表面活化 | 第44-45页 |
| 4.4 低温金-金键合 | 第45-49页 |
| 4.4.1 实验装置 | 第45-47页 |
| 4.4.2 实验材料 | 第47页 |
| 4.4.3 表面活化 | 第47-48页 |
| 4.4.4 低温金-金键合 | 第48-49页 |
| 4.5 键合质量检测 | 第49-51页 |
| 4.6 本章小结 | 第51-52页 |
| 第五章 光栅测试与结果分析 | 第52-58页 |
| 5.1 测试方法 | 第52页 |
| 5.2 测量装置 | 第52-53页 |
| 5.3 测试结果分析 | 第53-57页 |
| 5.4 本章小结 | 第57-58页 |
| 结论 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
| 攻读硕士期间发表的论文和科研、获奖情况 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
