| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 光刻 | 第9页 |
| 1.2 表面等离子体干涉光刻 | 第9-14页 |
| 1.2.1 表面等离子体 | 第9-10页 |
| 1.2.2 表面等离子体干涉光刻的研究进展 | 第10-14页 |
| 1.3 导模干涉光刻 | 第14-18页 |
| 1.3.1 导模 | 第14-15页 |
| 1.3.2 导模干涉光刻研究进展 | 第15-18页 |
| 1.4 主要内容及创新点 | 第18-20页 |
| 第二章 零阶导模干涉刻写不同周期亚波长光栅理论研究 | 第20-27页 |
| 2.1 理论研究 | 第20-22页 |
| 2.2 理论计算结果 | 第22-25页 |
| 2.3 本章小结 | 第25-27页 |
| 第三章 TE_0导模干涉刻写周期可调亚波长光栅理论研究 | 第27-34页 |
| 3.1 TE_0导模干涉光刻结构示意图及基本理论 | 第27-28页 |
| 3.2 研究结果与讨论 | 第28-32页 |
| 3.2.1 激发光波长对亚波长光栅周期的影响 | 第28-29页 |
| 3.2.2 光刻胶对亚波长光栅周期的影响 | 第29-31页 |
| 3.2.3 棱镜折射率对刻写亚波长光栅的影响 | 第31页 |
| 3.2.4 TE_0导模干涉刻写亚波长光栅的优势 | 第31-32页 |
| 3.3 本章小结 | 第32-34页 |
| 第四章 高阶导模干涉刻写不同周期多层亚波长光子结构理论研究 | 第34-41页 |
| 4.1 理论分析 | 第34-36页 |
| 4.2 数值计算结果 | 第36-40页 |
| 4.2.1 光刻胶厚度和折射率 | 第37-38页 |
| 4.2.2 导模 | 第38-40页 |
| 4.3 本章小结 | 第40-41页 |
| 结论与展望 | 第41-43页 |
| 参考文献 | 第43-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 附录 攻读硕士期间作者研究成果目录 | 第52页 |
