| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第14-49页 |
| 1.1 超导材料 | 第14-18页 |
| 1.1.1 超导材料概述 | 第14-17页 |
| 1.1.2 超导材料分类 | 第17-18页 |
| 1.1.3 超导材料应用 | 第18页 |
| 1.2 高温超导涂层导体 | 第18-33页 |
| 1.2.1 YBa_2Cu_3O_(7-δ)超导层 | 第19-24页 |
| 1.2.2 基底介绍 | 第24-27页 |
| 1.2.3 缓冲层介绍 | 第27-29页 |
| 1.2.4 涂层导体进展 | 第29-32页 |
| 1.2.5 涂层导体存在问题及解决办法 | 第32-33页 |
| 1.3 实验方法及机理 | 第33-46页 |
| 1.3.1 电化学抛光 | 第34-36页 |
| 1.3.2 金属氧化 | 第36-41页 |
| 1.3.3 化学溶液沉积法 | 第41-43页 |
| 1.3.4 薄膜外延生长 | 第43-46页 |
| 1.4 论文内容及结构 | 第46-49页 |
| 1.4.1 论文内容 | 第46-47页 |
| 1.4.2 论文结构 | 第47-49页 |
| 第2章 实验方案设计与表征手段 | 第49-68页 |
| 2.1 实验方案设计 | 第49-63页 |
| 2.1.1 NiO氧化膜制备 | 第50-53页 |
| 2.1.2 SmBiO_3或Ce_(0.8)Sm_(0.2)O_(2-Δ)缓冲层薄膜制备 | 第53-59页 |
| 2.1.3 YBa_2Cu_3O_(7-δ)超导层制备 | 第59-63页 |
| 2.2 表征手段 | 第63-67页 |
| 2.2.1 晶体结构及织构表征 | 第64-65页 |
| 2.2.2 微结构及表面形貌表征 | 第65-66页 |
| 2.2.3 样品差热分析(DSC/TGA) | 第66页 |
| 2.2.4 电磁性能表征 | 第66-67页 |
| 本章小结 | 第67-68页 |
| 第3章 表面氧化外延制备NiO薄膜 | 第68-82页 |
| 3.1 Ni-W基带高温固溶 | 第68-69页 |
| 3.2 Ni-W基带电化学抛光 | 第69-73页 |
| 3.2.1 抛光电流密度对Ni-W基带表面影响 | 第69-70页 |
| 3.2.2 抛光时间对Ni-W基带表面影响 | 第70-73页 |
| 3.3 NiO(L00)薄膜制备 | 第73-81页 |
| 3.3.1 中温表面氧化外延制备NiO缓冲层薄膜 | 第73-77页 |
| 3.3.2 退火对NiO缓冲层质量影响 | 第77-81页 |
| 本章小结 | 第81-82页 |
| 第4章 SmBiO_3和Ce_(0.8)Sm_(0.2)O_(2-Δ)缓冲层快速制备 | 第82-98页 |
| 4.1 SBiO_3缓冲层快速制备 | 第82-93页 |
| 4.1.1 SmBiO_3前驱溶液涂敷 | 第82-83页 |
| 4.1.2 SmBiO_3旋涂膜溶剂挥发 | 第83-85页 |
| 4.1.3 SmBiO_3前驱物快速分解 | 第85页 |
| 4.1.4 SmBiO_3缓冲层薄膜在YSZ单晶衬底上外延生长 | 第85-90页 |
| 4.1.5 SmBiO_3缓冲层薄膜在NiO/Ni-W衬底上外延生长 | 第90-93页 |
| 4.2 Ce_(0.8)Sm_(0.2)O_(2-Δ)缓冲层快速制备 | 第93-97页 |
| 4.2.1 Ce_(0.8)Sm_(0.2)O_(2-Δ)前驱溶液涂敷 | 第93-94页 |
| 4.2.2 Ce_(0.8)Sm_(0.2)O_(2-Δ)旋涂膜溶剂挥发 | 第94页 |
| 4.2.3 Ce_(0.8)Sm_(0.2)O_(2-Δ)前驱物快速分解 | 第94-95页 |
| 4.2.4 Ce_(0.8)Sm_(0.2)O_(2-Δ)缓冲层成相外延 | 第95-97页 |
| 本章小结 | 第97-98页 |
| 第5章 SmBiO_3缓冲层薄膜外延生长机理 | 第98-118页 |
| 5.1 SmBiO_3薄膜外延生长热力学及动力学研究 | 第98-100页 |
| 5.2 失配度对SmBiO_3薄膜外延生长的影响 | 第100-106页 |
| 5.2.1 SmBiO_3薄膜在LaAlO_3单晶衬底上外延生长 | 第100-102页 |
| 5.2.2 SmBiO_3薄膜在MgO单晶衬底上外延生长 | 第102页 |
| 5.2.3 不同衬底上生长的SmBiO_3薄膜分析比较 | 第102-106页 |
| 5.3 氧分压对SmBiO_3薄膜外延生长的影响 | 第106-117页 |
| 5.3.1 空气中SmBiO_3薄膜在YSZ单晶衬底上外延生长 | 第106-109页 |
| 5.3.2 高纯氩中SmBiO_3薄膜在YSZ单晶衬底上外延生长 | 第109-111页 |
| 5.3.3 氢氩中SmBiO_3薄膜在YSZ单晶衬底上外延生长 | 第111-112页 |
| 5.3.4 不同氧分压气氛中所得SmBiO_3薄膜外延薄膜分析比较 | 第112-117页 |
| 本章小结 | 第117-118页 |
| 第6章 YBa_2Cu_3O_(7-δ)超导层快速制备 | 第118-130页 |
| 6.1 YBa_2Cu_3O_(7-δ)超导薄膜在LaAlO_3单晶衬底上快速制备 | 第118-124页 |
| 6.1.1 YBa_2Cu_3O_(7-δ)前驱薄膜溶剂挥发 | 第118-119页 |
| 6.1.2 YBa_2Cu_3O_(7-δ)前驱薄膜前驱物分解 | 第119页 |
| 6.1.3 YBa_2Cu_3O_(7-δ)超导薄膜外延生长 | 第119-124页 |
| 6.2 YBa_2Cu_3O_(7-δ)超导薄膜在SmBiO_3/NiO/Ni-W衬底上快速制备 | 第124-125页 |
| 6.3 YBa_2Cu_3O_(7-δ)超导薄膜在SmBiO_3/YSZ衬底上快速制备 | 第125-127页 |
| 6.4 YBa_2Cu_3O_(7-δ)超导薄膜在Ce_(0.8)Sm_(0.2)O_(2-Δ)/YSZ衬底上快速制备 | 第127-128页 |
| 本章小结 | 第128-130页 |
| 全文总结 | 第130-132页 |
| 致谢 | 第132-133页 |
| 参考文献 | 第133-147页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及科研成果 | 第147-148页 |
