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基于极化电场调控AlGaN基紫外探测器的研究

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第1章 绪论第12-26页
    1.1 紫外探测技术的应用第12-13页
    1.2 紫外探测技术的发展第13-14页
    1.3 Ⅲ族氮化物材料的基本特性第14-19页
    1.4 Ⅲ族氮化物材料的制备方法第19-20页
    1.5 AlGaN基紫外探测的发展第20-22页
    1.6 半导体紫外探测器的主要参数第22-23页
    1.7 本论文的主要研究内容第23-26页
第2章 MOCVD设备、材料表征和器件测试简介第26-42页
    2.1 MOCVD外延生长设备系统介绍第26-29页
    2.2 AlGaN基外延材料表征第29-38页
        2.2.1 金相显微镜第29-30页
        2.2.2 高分辨X射线衍射第30-32页
        2.2.3 原子力显微镜第32-33页
        2.2.4 扫描电子显微镜第33-35页
        2.2.5 光致发光第35-36页
        2.2.6 霍尔测试第36-38页
    2.3 AlGaN基紫外探测器测试第38-40页
        2.3.1 紫外光谱响应测试第38-39页
        2.3.2 电流-电压(I-V)测试第39-40页
    2.4 本章小结第40-42页
第3章 AlGaN材料的生长和掺杂第42-62页
    3.1 AlGaN材料MOCVD方法的生长机理第42-43页
    3.2 外延衬底的选择第43-44页
    3.3 缓冲层的生长第44-49页
    3.4 AlGaN基材料的n型掺杂第49-51页
    3.5 AlGaN基材料的p型掺杂第51-60页
        3.5.1 Mg-δ 掺杂p-AlGaN材料的生长第52-53页
        3.5.2 薄膜结晶质量表征第53-55页
        3.5.3 薄膜表面形貌分析第55-57页
        3.5.4 透射光谱分析第57-59页
        3.5.5 电学特性分析第59-60页
    3.6 本章小结第60-62页
第4章 极化电场对pin AlGaN基紫外探测器性能影响的研究第62-82页
    4.1 研究背景与意义第62-64页
    4.2 器件结构外延生长第64-66页
    4.3 器件制备工艺第66-68页
    4.4 器件性能表征第68-77页
        4.4.1 电流-电压(I-V)特性第68-75页
        4.4.2 光谱响应特性第75-77页
    4.5 插入层对pin AlGaN紫外探测器的影响第77-79页
        4.5.1 器件结构设计第77-78页
        4.5.2 器件结构外延生长和制备第78页
        4.5.3 器件性能测试第78-79页
    4.6 本章小结第79-82页
第5章 极化电场对肖特基AlGaN紫外探测器性能的影响第82-94页
    5.1 研究背景和意义第82-86页
        5.1.1 肖特基二极管工作原理第82-85页
        5.1.2 肖特基AlGaN紫外探测器的发展第85-86页
    5.2 极化电场对肖特基AlGaN紫外探测器的影响第86-91页
        5.2.1 器件结构外延生长第87-88页
        5.2.2 器件制备工艺第88页
        5.2.3 器件光谱响应特性测试第88-90页
        5.2.4 器件电压-电流(I-V)特性测试第90-91页
    5.3 本章小结第91-94页
第6章 实验估算AlGaN材料中空穴碰撞阈值能量第94-106页
    6.1 研究背景和意义第94-95页
    6.2 AlGa N基雪崩紫外探测器的发展第95-96页
    6.3 碰撞离化理论模型发展第96-98页
    6.4 实验设计第98-100页
        6.4.1 器件结构设计原理第98-100页
        6.4.2 器件结构外延生长第100页
        6.4.3 器件制备工艺第100页
    6.5 器件测试结果与分析第100-105页
    6.6 本章小结第105-106页
第7章 结论与展望第106-110页
    7.1 结论第106-108页
    7.2 研究展望第108-110页
参考文献第110-132页
在学期间学术成果情况第132-134页
指导教师及作者简介第134-136页
致谢第136-137页

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