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单轴应变Si NMOSFET模型及模拟技术研究

摘要第1-7页
ABSTRACT第7-13页
符号对照表第13-14页
缩略语对照表第14-18页
第一章 绪论第18-28页
   ·单轴应变Si技术研究现状概述第18-24页
     ·Si基MOSFET的发展及限制第18-20页
     ·单轴应变Si技术研究现状第20-24页
   ·单轴应变Si NMOSFET模型的研究现状及存在的问题第24-25页
   ·论文的研究目的与主要工作第25-28页
第二章 单轴应变Si NMOSFET直流特性模型研究第28-56页
   ·单轴应变Si NMOSFET器件结构及等效电路模型第28-29页
   ·载流子迁移率模型第29-33页
   ·阈值电压模型第33-37页
     ·阈值电压与应力强度的关系第33-34页
     ·短沟效应第34-35页
     ·DIBL效应第35-36页
     ·窄沟效应第36-37页
     ·衬偏效应第37页
   ·源漏电流模型第37-46页
     ·反型及饱和区电流模型第40-42页
     ·亚阈区电流模型第42-43页
     ·平滑函数第43-46页
   ·小尺寸模型第46-50页
     ·饱和区沟道长度调制效应第46-49页
     ·载流子速度饱和第49-50页
   ·结果与分析第50-54页
   ·本章小结第54-56页
第三章 单轴应变Si NMOSFET瞬态及交流特性模型研究第56-74页
   ·单轴应变Si NMOSFET电荷模型第56-60页
     ·积累区电荷模型第56-57页
     ·耗尽区与反型区电荷模型第57-59页
     ·亚阈区电荷模型第59页
     ·电荷模型的平滑函数第59-60页
   ·单轴应变Si NMOSFET电容特性模型第60-62页
   ·寄生元件模型第62-63页
   ·衬底结电流和电容模型第63-65页
   ·模型的温度效应第65-69页
   ·结果与分析第69-72页
   ·本章小结第72-74页
第四章 单轴应变Si NMOSFET栅电流模型研究第74-88页
   ·热载流子栅电流模型第74-77页
     ·载流子电荷面密度第75页
     ·注入效率第75-76页
     ·溢出几率第76页
     ·载流子在栅和栅介质界面的平均速度第76页
     ·热载流子栅电流模型第76-77页
     ·热载流子栅电流与经时击穿(TDDB)关系分析第77页
   ·栅隧穿电流模型第77-82页
     ·平均碰撞频率第79-80页
     ·隧穿几率第80-81页
     ·栅隧穿电流模型第81-82页
   ·结果与分析第82-87页
   ·本章小结第87-88页
第五章 单轴应变Si NMOSFET模拟技术研究第88-100页
   ·器件工艺实现与模型参数提取第88-94页
     ·器件工艺实现第88-89页
     ·器件测试第89-90页
     ·模型参数提取第90-94页
   ·单轴应变Si NMOSFET模型验证及电路仿真技术第94-99页
     ·基于verilogA语言的模型嵌入技术第94-96页
     ·单轴应变Si NMOSFET器件仿真验证第96-98页
     ·环形振荡器电路仿真验证第98-99页
   ·本章小结第99-100页
第六章 总结与展望第100-102页
   ·论文的主要工作与成果第100-101页
   ·对进一步研究工作的考虑第101-102页
参考文献第102-116页
致谢第116-118页
作者简介第118-120页

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