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新型微波晶体管噪声机理与噪声模型研究

摘要第1-8页
ABSTRACT第8-15页
第一章 绪论第15-28页
   ·研究背景和研究意义第15-16页
   ·晶体管的发展动态第16-21页
     ·晶体管尺寸方面第16-19页
     ·晶体管材料方面第19-21页
   ·新型微波晶体管噪声特性国内外研究现状第21-26页
     ·国外研究现状第21-25页
     ·国内研究现状第25-26页
   ·本文的研究内容及文章结构第26-28页
第二章 晶体管噪声基础理论及其模拟方法第28-50页
   ·晶体管噪声基础理论第28-33页
     ·晶体管噪声的种类第28-31页
     ·晶体管噪声的表征第31-33页
   ·晶体管噪声模拟方法第33-49页
     ·半导体器件模拟方法第33-34页
     ·基于等效电路模型的经验基方法第34-37页
     ·基于 DD 或 HD 模型的半物理基方法第37-39页
     ·基于蒙特卡洛方法的物理基方法第39-49页
   ·本章小结第49-50页
第三章 硅基纳米双栅 MOSFET 物理基噪声特性研究第50-68页
   ·硅基纳米双栅 MOSFET第50-51页
   ·蒙特卡洛方法的验证第51-55页
   ·硅基纳米双栅 MOSFET 器件模拟特性第55-66页
     ·静态特性第55-59页
     ·小信号特性第59-62页
     ·噪声特性第62-66页
   ·本章小结第66-68页
第四章 硅基纳米无结型 MOSFET 物理基噪声特性研究第68-96页
   ·硅基纳米无结型 MOSFET第68-69页
   ·硅基纳米无结型 MOSFET 器件结构第69-71页
   ·硅基纳米无结型 MOSFET 器件模拟特性第71-83页
     ·静态特性第71-76页
     ·小信号特性第76-80页
     ·噪声特性第80-82页
     ·小结第82-83页
   ·新型的硅基纳米无结型 MOSFET 噪声特性研究第83-94页
     ·新型的无结型 MOSFET 器件结构第83-85页
     ·沟道梯度掺杂的赝无结型 MOSFET 器件模拟特性第85-94页
     ·小结第94页
   ·本章小结第94-96页
第五章 GaN HEMT 半物理基噪声特性研究第96-114页
   ·GaN HEMT 低噪声器件工作机理第96-102页
     ·GaN HEMT 器件结构及其导电机理第96-97页
     ·AlGaN/GaN 异质结的二维电子气第97-101页
     ·GaN HEMT 噪声性能分析第101-102页
   ·基于半物理基数值模型的凹栅 GaN HEMT 噪声特性研究第102-108页
     ·凹栅 GaN HEMT 器件结构第102-103页
     ·半物理基数值模型的建立第103-105页
     ·凹栅 GaN HEMT 器件模拟特性第105-107页
     ·小结第107-108页
   ·基于半物理基数值模型的 InAlN/GaN HEMT 噪声特性研究第108-112页
     ·InAlN/GaN HEMT 器件第108页
     ·半物理基数值模型的建立第108-110页
     ·InAlN/GaN HEMT 器件模拟特性第110-112页
     ·小结第112页
   ·本章小结第112-114页
第六章 GaN HEMT 经验基噪声特性研究第114-135页
   ·简便的 GaN HEMT 噪声等效电路模型第114-122页
     ·模型的设置第114-115页
     ·模型的噪声参数推导第115-119页
     ·模型的验证第119-120页
     ·模型的讨论第120-122页
   ·凹栅 GaN HEMT 器件噪声等效电路模型的建立第122-129页
     ·小信号等效电路模型的建立第123-127页
     ·噪声等效电路模型的建立第127-129页
   ·凹栅 GaN HEMT 低噪声放大器设计与制作第129-134页
     ·稳定性分析第130-131页
     ·匹配网络设计第131-132页
     ·测试结果与分析第132-134页
   ·本章小结第134-135页
第七章 总结与展望第135-139页
致谢第139-140页
参考文献第140-152页
攻读博士学位期间取得的成果第152-154页
附录第154-156页

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