| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 目录 | 第9-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-36页 |
| ·引言 | 第12-13页 |
| ·Ⅲ族氮化物研究概况 | 第13-14页 |
| ·Ⅲ族氮化物性质概述 | 第14-18页 |
| ·AlN薄膜 | 第15页 |
| ·AlGaN薄膜 | 第15-16页 |
| ·AlInN薄膜 | 第16-17页 |
| ·AlInN薄膜的研究现状 | 第17-18页 |
| ·紫外探测器的研究概况 | 第18-19页 |
| ·垂直微腔器件研究概况 | 第19-23页 |
| ·VCSEL的基本特性 | 第19-20页 |
| ·RCLED的基本特性 | 第20页 |
| ·共振腔增强型探测器 | 第20-23页 |
| ·Ⅲ族氮化物分布式布拉格反射镜的研究概述 | 第23页 |
| ·论文主要研究内容与结构 | 第23-26页 |
| 参考文献 | 第26-36页 |
| 第二章 Ⅲ族氮化物的生长和表征 | 第36-46页 |
| ·Ⅲ族氮化物薄膜材料的生长 | 第36-38页 |
| ·Ⅲ族氮化物薄膜生长技术 | 第36-37页 |
| ·衬底材料 | 第37-38页 |
| ·布拉格外延薄膜的表征方法 | 第38-45页 |
| ·X射线衍射 | 第38-40页 |
| ·材料的光学特性表征 | 第40-41页 |
| ·二次离子质谱分析 | 第41-42页 |
| ·透射电子显微镜 | 第42-45页 |
| 参考文献 | 第45-46页 |
| 第三章 布拉格反射镜及其模拟 | 第46-58页 |
| ·布拉格反射镜理论计算 | 第46-50页 |
| ·解析计算方法 | 第46-47页 |
| ·基于传递矩阵的数值模拟方法 | 第47-50页 |
| ·布拉格反射镜的设计 | 第50页 |
| ·DBR材料折射率模拟计算 | 第50-53页 |
| ·Al_xGa_(1-x)N折射率随组分,波长的变化 | 第50-52页 |
| ·AlInN折射率计算 | 第52-53页 |
| ·DBR反射率的优化 | 第53-54页 |
| ·XRD模拟软件简介-X' Pert Epitaxya and Smoothfit | 第54-56页 |
| ·小结 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-58页 |
| 第四章 Ⅲ族氮化物布拉格反射镜的XRD表征与模拟 | 第58-74页 |
| ·引言 | 第58页 |
| ·HR-XRD表征 | 第58-59页 |
| ·截面TEM测量厚度及其分析 | 第59-60页 |
| ·利用XRD计算周期厚度 | 第60-61页 |
| ·XRD衍射模拟及其组分确定 | 第61-65页 |
| ·DBRⅠ XRD衍射模拟及其组分确定 | 第62-63页 |
| ·DBRⅡ XRD衍射模拟及其组分确定 | 第63-65页 |
| ·DBR晶格常数计算 | 第65-69页 |
| ·DBRⅠ 晶格常数计算 | 第66-68页 |
| ·DBRⅡ 晶格常数计算 | 第68-69页 |
| ·DBR外延膜的应变分析和计算 | 第69-71页 |
| ·小结 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-74页 |
| 第五章 Ⅲ族氮化物布拉格反射镜的结构和光学特性研究 | 第74-87页 |
| ·引言 | 第74-75页 |
| ·布拉格反射镜的制备 | 第75-77页 |
| ·成核层的生长 | 第75页 |
| ·制备方式及过程 | 第75-76页 |
| ·制备要求 | 第76页 |
| ·测试方案 | 第76-77页 |
| ·Al_(0.67)Ga_(0.33)N/Al_(0.98)In_(0.02)N DBRⅠ的测量分析与反射率模拟 | 第77-82页 |
| ·Al_(0.98)In_(0.02)N/Al_(0.8)Ga_(0.2)N DBRⅡ的反射率测量分析与模拟 | 第82-83页 |
| ·小结 | 第83-85页 |
| 参考文献 | 第85-87页 |
| 第六章 结论及展望 | 第87-89页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第89-90页 |
| 致谢 | 第90-91页 |
