声表面波射频标签的分析设计
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-13页 |
| ·射频识别技术概述 | 第9页 |
| ·声表面波 RFID 标签发展现状 | 第9-11页 |
| ·国外发展状况 | 第9-11页 |
| ·国内发展状况 | 第11页 |
| ·本文的主要工作及后续章节的安排 | 第11-13页 |
| 第二章 SAW 标签组成及工作 | 第13-19页 |
| ·SAW RFID 系统 | 第13-15页 |
| ·声表面波技术概述 | 第13-15页 |
| ·声表面波标签的发展 | 第15页 |
| ·SAW RFID 基本组成及工作原理 | 第15-17页 |
| ·标签基本组成 | 第15-17页 |
| ·SAW RFID 工作原理 | 第17页 |
| ·声表面波标签应用 | 第17-19页 |
| 第三章 SAW 标签叉指换能器（IDT）及反射栅 | 第19-30页 |
| ·叉指换能器（IDT）的基本结构与原理 | 第19-20页 |
| ·叉指换能器的制作及静态特性 | 第20-25页 |
| ·叉指换能器制作 | 第20-21页 |
| ·叉指换能器电荷分布 | 第21-22页 |
| ·机电耦合系数 | 第22-23页 |
| ·IDT 的阻抗特性 | 第23-25页 |
| ·叉指换能器模型 | 第25-28页 |
| ·δ模型 | 第25-26页 |
| ·等效电路模型 | 第26-27页 |
| ·P 矩阵模型 | 第27-28页 |
| ·SAW 反射栅 | 第28-29页 |
| ·本章总结 | 第29-30页 |
| 第四章 压电薄膜的制备分析 | 第30-45页 |
| ·硅片上氧化锌薄膜的生长分析 | 第30-35页 |
| ·氧化锌性能 | 第30页 |
| ·ZnO 薄膜制备方法的比较 | 第30-32页 |
| ·射频磁控溅射介绍 | 第32页 |
| ·制备 ZnO 薄膜及分析 | 第32-35页 |
| ·不同衬底上制备的 ZnO 压电薄膜 | 第35-41页 |
| ·不同衬底上 ZnO 薄膜的制备和测试 | 第35-36页 |
| ·XRD 分析 | 第36-39页 |
| ·原子力分析 | 第39-41页 |
| ·ZnO/金刚石/硅多层膜分析 | 第41-44页 |
| ·本章总结 | 第44-45页 |
| 第五章 SAW 射频标签天线 | 第45-50页 |
| ·天线基础 | 第45-46页 |
| ·天线概述 | 第45页 |
| ·天线分类 | 第45页 |
| ·天线的基本振子模型 | 第45-46页 |
| ·SAW 标签中的天线 | 第46-48页 |
| ·天线分析 | 第46-47页 |
| ·天线参数表征 | 第47-48页 |
| ·平面倒 F 天线 | 第48-50页 |
| 第六章 总结与展望 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-54页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
