| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-29页 |
| ·CVD 金刚石薄膜 | 第11-17页 |
| ·金刚石的晶体结构 | 第12-14页 |
| ·CVD 金刚石膜的优异性能 | 第14-17页 |
| ·CVD 纳米金刚石薄膜 | 第17-27页 |
| ·纳米金刚石薄膜的定义及优势 | 第17-19页 |
| ·纳米金刚石薄膜的性能及应用 | 第19-21页 |
| ·纳米金刚石膜的制备技术 | 第21-25页 |
| ·CVD 法沉积纳米金刚石薄膜的原理 | 第25-27页 |
| ·本文的研究目的和意义 | 第27-29页 |
| 第二章 实验装置及表征方法 | 第29-37页 |
| ·实验装置 | 第29-34页 |
| ·微波系统 | 第30-32页 |
| ·气路系统 | 第32页 |
| ·真空系统及测量系统 | 第32-33页 |
| ·保护系统 | 第33-34页 |
| ·样品表征 | 第34-37页 |
| ·光学显微镜 | 第34页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第34页 |
| ·原子力显微镜 | 第34-35页 |
| ·激光拉曼光谱 | 第35-37页 |
| 第三章 高平整度纳米金刚石薄膜沉积工艺研究 | 第37-49页 |
| ·试验及样品表征 | 第37-47页 |
| ·基片预处理对纳米金刚石薄膜生长的影响 | 第38-40页 |
| ·基片温度对纳米金刚石薄膜生长的影响 | 第40-43页 |
| ·微波功率和沉积气压对纳米金刚石薄膜生长的影响 | 第43-45页 |
| ·碳源浓度对纳米金刚石薄膜生长的影响 | 第45-47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 第四章 工艺参数的优化与大面积纳米金刚石薄膜的制备 | 第49-59页 |
| ·纳米金刚石薄膜制备工艺的优化 | 第49-54页 |
| ·预处理工艺的优化 | 第49-51页 |
| ·基片温度的优化 | 第51-53页 |
| ·气源的优化 | 第53-54页 |
| ·大面积纳米金刚石薄膜的制备和表征 | 第54-57页 |
| ·SEM 表征 | 第54-55页 |
| ·Raman 光谱表征 | 第55-56页 |
| ·AFM 表征 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 第五章 论文总结与展望 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-67页 |
| 攻读硕士期间已发表的论文 | 第67-69页 |
| 致谢 | 第69页 |