P型透明导电SrCu2O2薄膜的制备及性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-18页 |
| ·问题的提出及研究意义 | 第9-10页 |
| ·SRCU_2O_2 薄膜的研究现状 | 第10-17页 |
| ·SrCu_2O_2 薄膜的结构 | 第10-13页 |
| ·SrCu_2O_2 薄膜材料的性能 | 第13-14页 |
| ·SrCu_2O_2 薄膜的制备 | 第14-16页 |
| ·SrCu_2O_2 薄膜的应用前景 | 第16-17页 |
| ·本文研究的内容及创新点 | 第17-18页 |
| 2 SCO 陶瓷靶材的制备 | 第18-29页 |
| ·固相反应烧结法 | 第18-19页 |
| ·引言 | 第18页 |
| ·固相反应烧结法基本原理 | 第18-19页 |
| ·实验仪器及试验流程 | 第19-26页 |
| ·试验仪器 | 第19-23页 |
| ·试验流程 | 第23-26页 |
| ·陶瓷靶材的结构与成份 | 第26-28页 |
| ·靶材的XRD 分析 | 第26页 |
| ·靶材的SEM 分析 | 第26-28页 |
| ·小结 | 第28-29页 |
| 3 SCO 薄膜制备及测试方法 | 第29-36页 |
| ·直流磁控溅射法简介 | 第29-30页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·直流磁控溅射的基本原理 | 第29-30页 |
| ·试验仪器及试验流程 | 第30-32页 |
| ·试验仪器 | 第30-31页 |
| ·试验流程 | 第31-32页 |
| ·制备SCO 薄膜的试验条件 | 第32页 |
| ·SCO 薄膜的检测方法 | 第32-36页 |
| ·X 射线衍射仪 | 第32-33页 |
| ·扫描电镜 | 第33-34页 |
| ·霍尔测试仪 | 第34-35页 |
| ·分光光度计 | 第35-36页 |
| 4 SCO 薄膜的结构与光电性能 | 第36-53页 |
| ·结构分析和形貌表征 | 第36-39页 |
| ·结构分析 | 第36-37页 |
| ·形貌表征 | 第37-39页 |
| ·薄膜的光学性能 | 第39-47页 |
| ·SCO 薄膜的紫外可见透射光谱 | 第39-40页 |
| ·工作压强对薄膜透射光谱的影响 | 第40-41页 |
| ·靶基距对薄膜透射光谱的影响 | 第41页 |
| ·溅射时间对薄膜透射光谱的影响 | 第41-42页 |
| ·沉积温度对薄膜透射光谱的影响 | 第42-43页 |
| ·氧氩比对薄膜透射光谱的影响 | 第43-44页 |
| ·退火处理对薄膜透射光谱的影响 | 第44页 |
| ·光学带隙的理论计算 | 第44-47页 |
| ·薄膜的电学性能 | 第47-52页 |
| ·氧氩比对SCO 薄膜电学性能的影响 | 第47-49页 |
| ·退火处理对薄膜电学性能的影响 | 第49-52页 |
| ·小结 | 第52-53页 |
| 5 结论与展望 | 第53-54页 |
| ·结论 | 第53页 |
| ·展望 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-60页 |
| 附录 | 第60-62页 |
