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存储器辐照总剂量试验方法研究

摘要第1-4页
Abstract第4-7页
第一章 绪论第7-11页
   ·研究背景第7页
   ·研究现状和主要问题第7-11页
     ·国内外发展现状第7-8页
     ·本文研究内容及论文结构第8-11页
第二章 MOS 电路辐射损伤表征研究第11-25页
   ·辐射环境第11-12页
     ·空间辐射环境第11页
     ·辐射剂量表征第11-12页
   ·辐照效应及辐射损伤机理第12-16页
     ·总剂量效应第13页
     ·剂量率效应第13页
     ·单粒子效应第13-14页
     ·辐射损伤机理第14-16页
   ·MOS 器件辐照损伤机理研究第16-23页
     ·Si0_2 介质材料的器件应用第16-17页
     ·Si0_2 介质材料辐射损伤机理第17-20页
     ·MOS 器件辐射电参数的退化第20-23页
   ·小结第23-25页
第三章 存储器辐照试验方法研究分析第25-41页
   ·存储器的工作原理第26-27页
     ·EEPROM 存储器的工作原理第26页
     ·闪烁存储器的工作原理第26页
     ·铁电存储器的工作原理第26-27页
   ·存储器失效机理第27页
     ·耐久力特性第27页
     ·数据保持力特性第27页
   ·总剂量试验分析第27-30页
   ·存储器辐射剂量率分析第30-37页
     ·模拟试验与空间辐射环境剂量率的差异第30-31页
     ·美国宇航局剂量率选择规律第31-36页
     ·不同剂量率辐射器件失效机理研究第36-37页
   ·存储器辐照后电参数测试的研究第37-40页
     ·存储器辐照影响第37页
     ·工作模式对试验结果的影响研究第37-40页
   ·小结第40-41页
第四章 高温加速退火对试验结果影响的研究第41-47页
   ·试验样品及条件第41-42页
   ·试验程序第42-43页
   ·试验结果及分析第43-44页
   ·小结第44-47页
第五章 总结与展望第47-51页
   ·本文主要工作及结论第47-50页
   ·展望第50-51页
致谢第51-53页
参考文献第53-57页

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