1 绪论 | 第1-39页 |
·锆及氢化锆 | 第10-15页 |
·锆的基本特性要 | 第11页 |
·氢化锆的基本特性 | 第11-13页 |
·氢化锆用于反应堆必须解决的问题 | 第13-14页 |
·氢化锆在反应堆中的应用 | 第14-15页 |
·氢渗透阻挡层制备的研究现状 | 第15-36页 |
·表面处理技术和镀覆层 | 第15-16页 |
·氢渗透阻挡层 | 第16-17页 |
·氢渗透阻挡层研究中所用到的表面处理方法 | 第17-28页 |
·氢渗透阻挡层研究中所用到的检测方法 | 第28-30页 |
·氢渗透阻挡层制备的研究现状 | 第30-36页 |
·本论文研究的主要内容及技术路线 | 第36-39页 |
·研究的目的和主要内容 | 第36-37页 |
·研究的技术路线 | 第37-39页 |
2 氢渗透阻挡层的制备 | 第39-48页 |
·实验方法 | 第39页 |
·主要原材料 | 第39页 |
·主要设备与仪器 | 第39页 |
·实验装置 | 第39-40页 |
·实验装置图 | 第40页 |
·氢渗透阻挡层的制备工艺 | 第40-47页 |
·氢化锆基体样品准备 | 第40页 |
·电镀Cr-C工艺 | 第40-42页 |
·电镀Cr-C制备氢化锆表面氢渗透阻挡层的影响因素 | 第42-46页 |
·CO_2反应法制备氢渗透阻挡层工艺 | 第46-47页 |
·小结 | 第47-48页 |
3 氢化锆表面氢渗透阻挡层性能研究 | 第48-79页 |
·电镀法制备的氢渗透阻挡层的组织形貌与成分分析 | 第48-50页 |
·氢渗透阻挡层的组织形貌 | 第48-50页 |
·氢渗透阻挡层的成分分析 | 第50页 |
·CO_2法制备的氢渗透阻挡层的组织形貌与成分分析 | 第50-51页 |
·氢渗透阻挡层的组织形貌 | 第50-51页 |
·氢渗透阻挡层的成分分析 | 第51页 |
·X射线光电子能谱(XPS)半定量分析 | 第51-53页 |
·氢渗透阻挡层阻氢机理分析 | 第53-78页 |
·XPS全谱分析 | 第54-56页 |
·XPS窄谱分析 | 第56-78页 |
·小结 | 第78-79页 |
4 结论 | 第79-80页 |
参考文献 | 第80-84页 |
攻读硕士学位期间发表论文 | 第84-85页 |
申明 | 第85-86页 |
致谢 | 第86页 |