| 第1章 绪论 | 第1-16页 |
| 1．1 光学薄膜的发展历史与现状 | 第11-13页 |
| 1．2 本课题研究背景 | 第13-14页 |
| 1．3 本课题的研究内容、目标及意义 | 第14-16页 |
| 第2章 薄膜光学的理论基础 | 第16-24页 |
| 2．1 薄膜光学引言 | 第16页 |
| 2．2 薄膜干涉 | 第16-20页 |
| 2．2．1 双光束干涉 | 第16-18页 |
| 2．2．2 多光束千涉 | 第18-20页 |
| 2．3 电磁理论基础 | 第20-23页 |
| 2．3．1 麦克斯韦方程组 | 第20页 |
| 2．3．2 光学导纳的推导 | 第20-22页 |
| 2．3．3 边界条件 | 第22页 |
| 2．3．4 菲涅尔公式 | 第22-23页 |
| 2．4 本章小结 | 第23-24页 |
| 第3章 光学膜系的特性计算 | 第24-30页 |
| 3．1 单一界面的反射率 | 第24-25页 |
| 3．2 有效导纳的引入 | 第25-26页 |
| 3．3 薄膜的特征矩阵 | 第26-29页 |
| 3．4 本章小结 | 第29-30页 |
| 第4章 消偏振理论 | 第30-47页 |
| 4．1 引言 | 第30-31页 |
| 4．2 Costich的消偏振理论 | 第31-35页 |
| 4．3 消偏振的(1/4)λ膜系 | 第35-40页 |
| 4．4 受抑全反射消偏振膜 | 第40-44页 |
| 4．5 金属-介质消偏振膜 | 第44-46页 |
| 4．6 本章小结 | 第46-47页 |
| 第5章 Gilo消偏振膜系的分析 | 第47-56页 |
| 5．1 膜系的偏振效应 | 第47-49页 |
| 5．2 设计步骤 | 第49-50页 |
| 5．3 理论背景 | 第50-51页 |
| 5．4 Gilo的膜系设计 | 第51-55页 |
| 5．5 本章小结 | 第55-56页 |
| 第6章 消偏振分光膜系的设计 | 第56-71页 |
| 6．1 基于Gilo思想的可见光波段膜系设计 | 第56-59页 |
| 6．2 红外波段的消偏振分光膜系设计 | 第59-67页 |
| 6．2．1 基于 Gilo思想的红外消偏振分光膜系设计 | 第59-63页 |
| 6．2．1．1 冕牌 K9玻璃为基底材料的设计 | 第59-61页 |
| 6．2．1．2 重火石 ZF-7玻璃为基底材料的设计 | 第61-63页 |
| 6．2．2 Thelen消偏振分光膜系设计的红外拓展 | 第63-65页 |
| 6．2．3 基于受抑全反射原理的红外膜 | 第65-67页 |
| 6．3 材料色散对消偏振膜的影响 | 第67-68页 |
| 6．4 消偏振分光棱镜的制作要求 | 第68-69页 |
| 6．5 本章小结 | 第69-71页 |
| 结论 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-77页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
