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大面积MoTe2的相控制制备及MoTe2-xOx/MoTe2异质结在忆阻器方向的应用

摘要第4-5页
Abstract第5页
1 绪论第8-31页
    1.1 引言第8-9页
    1.2 二维材料第9-15页
    1.3 忆阻器第15-22页
    1.4 国内外研究概况第22-30页
    1.5 本论文的选题依据和主要研究内容第30-31页
2 实验部分第31-35页
    2.1 引言第31页
    2.2 实验药品及仪器第31-32页
    2.3 仪器表征第32-34页
    2.4 实验步骤第34-35页
3 二维材料碲化钼的制备及电学性能第35-45页
    3.1 引言第35页
    3.2 实验部分第35-36页
    3.3 MoTe_2的表征第36-41页
    3.4 新样品1T'相与2H相MoTe_2的忆阻性能测试第41-44页
    3.5 本章小结第44-45页
4 氧化碲化钼的忆阻性能及应用第45-63页
    4.1 引言第45页
    4.2 实验步骤第45页
    4.3 表征方法第45-49页
    4.4 自然氧化MoTe_2的忆阻性能第49-52页
    4.5 经过退火氧化的MoTe_2的忆阻性能第52-58页
    4.6 空气中自然氧化的MoTe_2的神经模拟测试第58-60页
    4.7 2H相 MoTe_2忆阻器机理分析第60-61页
    4.8 本章小结第61-63页
5 全文总结与展望第63-65页
    5.1 全文总结第63-64页
    5.2 课题展望第64-65页
致谢第65-66页
参考文献第66-75页
攻读学位期间发表论文第75页

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