摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
1 绪论 | 第8-31页 |
1.1 引言 | 第8-9页 |
1.2 二维材料 | 第9-15页 |
1.3 忆阻器 | 第15-22页 |
1.4 国内外研究概况 | 第22-30页 |
1.5 本论文的选题依据和主要研究内容 | 第30-31页 |
2 实验部分 | 第31-35页 |
2.1 引言 | 第31页 |
2.2 实验药品及仪器 | 第31-32页 |
2.3 仪器表征 | 第32-34页 |
2.4 实验步骤 | 第34-35页 |
3 二维材料碲化钼的制备及电学性能 | 第35-45页 |
3.1 引言 | 第35页 |
3.2 实验部分 | 第35-36页 |
3.3 MoTe_2的表征 | 第36-41页 |
3.4 新样品1T'相与2H相MoTe_2的忆阻性能测试 | 第41-44页 |
3.5 本章小结 | 第44-45页 |
4 氧化碲化钼的忆阻性能及应用 | 第45-63页 |
4.1 引言 | 第45页 |
4.2 实验步骤 | 第45页 |
4.3 表征方法 | 第45-49页 |
4.4 自然氧化MoTe_2的忆阻性能 | 第49-52页 |
4.5 经过退火氧化的MoTe_2的忆阻性能 | 第52-58页 |
4.6 空气中自然氧化的MoTe_2的神经模拟测试 | 第58-60页 |
4.7 2H相 MoTe_2忆阻器机理分析 | 第60-61页 |
4.8 本章小结 | 第61-63页 |
5 全文总结与展望 | 第63-65页 |
5.1 全文总结 | 第63-64页 |
5.2 课题展望 | 第64-65页 |
致谢 | 第65-66页 |
参考文献 | 第66-75页 |
攻读学位期间发表论文 | 第75页 |