| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-13页 |
| ·低介电常数材料的研究背景 | 第8-10页 |
| ·SiCOH 多孔超低k 材料的研究现状 | 第10-11页 |
| ·本小组SiCOH 薄膜研究的主要进展 | 第11-12页 |
| ·本文的研究内容 | 第12-13页 |
| 第二章 实验样品的制备及性能表征方法 | 第13-27页 |
| ·SiCOH 薄膜的制备 | 第13-17页 |
| ·微波电子回旋共振等离子体原理简介 | 第13-14页 |
| ·微波ECR-CVD 沉积系统 | 第14-15页 |
| ·实验参数 | 第15-17页 |
| ·SiCOH 薄膜的CHF_3 等离子体处理 | 第17页 |
| ·薄膜的介电与电学性能的表征 | 第17页 |
| ·SiCOH 薄膜结构的傅立叶变换红外光谱表征方法 | 第17-21页 |
| ·SiCOH 薄膜表面形貌的原子力显微镜表征 | 第21-23页 |
| ·SiCOH 薄膜润湿性能的水接触角（contact angle）表征 | 第23-27页 |
| 第三章 CHF_3等离子体表面处理对薄膜介电、电学性能的影响 | 第27-31页 |
| ·CHF_3 等离子体处理对Cu/SiCOH 结构J-E 特性的影响 | 第27-29页 |
| ·CHF_3 等离子体处理对Cu/SiCOH 结构C-V 特性的影响 | 第29-31页 |
| 第四章 CHF_3等离子体表面处理对薄膜吸湿性能和结构的影响 | 第31-38页 |
| ·CHF_3 等离子体表面处理对薄膜吸湿性能的影响 | 第31-33页 |
| ·CHF_3 等离子体表面处理对SiCOH 薄膜键结构的影响 | 第33-35页 |
| ·CHF_3 等离子体表面处理对SiCOH 薄膜表面形貌的影响 | 第35-38页 |
| 第五章 结论 | 第38-39页 |
| ·本文研究的主要结果 | 第38页 |
| ·存在的主要问题和进一步的研究方向 | 第38-39页 |
| 参考文献 | 第39-43页 |
| 攻读硕士期间发表论文 | 第43-44页 |
| 致谢 | 第44-45页 |
| 详细摘要 | 第45-47页 |
