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稀磁半导体新材料的电子结构与自旋调控研究

摘要第1-8页
ABSTRACT第8-14页
第一章 绪论(稀磁半导体的研究进展)第14-30页
   ·引言第14页
   ·稀磁半导体的研究意义第14-16页
   ·稀磁半导体的研究现状第16-26页
     ·稀磁半导体的理论发展第18-21页
     ·稀磁半导体的实验进展第21-26页
   ·本论文的主要研究内容第26-27页
 参考文献第27-30页
第二章 密度泛函理论和XAFS基本理论第30-48页
   ·密度泛函理论第30-39页
     ·Bohn-Oppenheimer近似第30-32页
     ·Hartree-Fock近似第32-35页
     ·密度泛函理论基础第35-37页
     ·交换相关能量泛函第37-38页
     ·计算程序简介第38-39页
   ·XAFS基本理论第39-46页
     ·XAFS概论第39页
     ·EXAFS基本理论第39-42页
     ·XANES基本理论第42-45页
     ·计算程序简介第45-46页
 参考文献第46-48页
第三章 Ⅱ-Ⅵ族稀磁半导体的结构和磁性研究第48-66页
   ·引言第48-49页
   ·样品制备第49页
   ·样品表征第49-58页
     ·XRD结果第50-51页
     ·SQUID结果第51-52页
     ·XANES结果第52-58页
   ·电子结构计算及分析第58-61页
     ·计算方法与细节第58页
     ·Zn空位效应第58-60页
     ·N共掺杂效应第60-61页
   ·本章小结第61-63页
 参考文献第63-66页
第四章 Ⅲ-Ⅴ族稀磁半导体的结构和磁性研究第66-82页
   ·引言第66-67页
   ·实验第67页
   ·计算方法与模型第67-68页
   ·XANES结果及分析第68-71页
   ·第一性原理计算结果及分析第71-76页
   ·讨论第76-77页
   ·本章小结第77-79页
 参考文献第79-82页
第五章 Ⅳ族稀磁半导体的结构和磁性理论研究第82-96页
   ·引言第82-83页
   ·计算模型和方法第83-84页
   ·结果第84-90页
   ·讨论第90-92页
   ·本章小结第92-93页
 参考文献第93-96页
第六章 氧化物稀磁半导体的电荷补偿共掺杂效应第96-110页
   ·引言第96-99页
   ·计算模型和方法第99-101页
   ·结果和讨论第101-107页
   ·本章小结第107-108页
 参考文献第108-110页
第七章 总结与展望第110-114页
   ·总结第110-111页
   ·展望第111-113页
 参考文献第113-114页
在读期间发表的学术论文与取得的研究成果第114-116页
致谢第116页

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