| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-18页 |
| ·微机电系统与纳机电系统 | 第8-10页 |
| ·微机电系统 | 第8页 |
| ·纳机电系统 | 第8-9页 |
| ·纳米梁结构加工 | 第9-10页 |
| ·硅在碱性溶液中的腐蚀 | 第10-12页 |
| ·腐蚀自停止技术 | 第12-17页 |
| ·各向异性腐蚀产生的自停止 | 第13页 |
| ·浓硼自停止 | 第13页 |
| ·电化学自停止 | 第13-16页 |
| ·无电极电化学自停止 | 第16-17页 |
| ·本论文主要内容 | 第17-18页 |
| 第2章 硅在TMAH溶液中的原电池钝化 | 第18-30页 |
| ·硅电极的极化曲线 | 第18-22页 |
| ·金电极极化曲线 | 第22-24页 |
| ·硅的原电池钝化 | 第24-28页 |
| ·金硅原电池结构实验 | 第28-30页 |
| 第3章 利用金硅自停止在(111)硅片上制作亚微米梁 | 第30-43页 |
| ·亚微米梁制作原理 | 第30-34页 |
| ·(111)硅片的腐蚀特性 | 第30-31页 |
| ·(111)硅片亚微米梁的腐蚀释放 | 第31-33页 |
| ·腐蚀槽设计 | 第33-34页 |
| ·亚微米梁结构制作工艺流程 | 第34-38页 |
| ·工艺要点说明 | 第34-36页 |
| ·工艺流程详细步骤 | 第36-38页 |
| ·亚微米梁释放结果 | 第38-43页 |
| 第4章 利用金硅自停止在(100)硅片上制作亚微米梁 | 第43-53页 |
| ·亚微米梁制作原理 | 第43-45页 |
| ·亚微米梁结构设计 | 第45-46页 |
| ·亚微米梁结构制作工艺流程 | 第46-50页 |
| ·工艺要点说明 | 第46-47页 |
| ·工艺流程详细步骤 | 第47-50页 |
| ·亚微米梁释放结果 | 第50-53页 |
| 第5章 总结与展望 | 第53-55页 |
| ·本论文工作总结 | 第53页 |
| ·工作展望 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 作者简介 | 第59页 |
| 硕士期间发表论文 | 第59-60页 |