| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 第一章 前言 | 第7-14页 |
| ·垂直磁记录原理 | 第9-11页 |
| ·垂直磁记录写入和读出原理 | 第9-10页 |
| ·垂直记录系统的主要构件 | 第10-11页 |
| ·垂直磁记录介质 | 第11-13页 |
| ·本论文的目的 | 第13-14页 |
| 第二章 薄膜的制备与表征 | 第14-29页 |
| ·磁控溅射的原理 | 第14-17页 |
| ·本实验采用磁控溅射系统简介 | 第16-17页 |
| ·溅射成膜的机理 | 第17-24页 |
| ·薄膜生长过程 | 第18-21页 |
| ·薄膜的后续生长与处理 | 第21-23页 |
| ·磁控溅射参数对薄膜生长影响 | 第23-24页 |
| ·薄膜的表征 | 第24-28页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第24-25页 |
| ·磁光克尔效应 | 第25-26页 |
| ·振动样品磁强计 | 第26-27页 |
| ·X射线法 | 第27-28页 |
| ·小结 | 第28-29页 |
| 第三章 Fe_(49)Pt_(51)/Fe双层膜 | 第29-40页 |
| ·样品制备与检测 | 第31页 |
| ·Fe原子层对Glass/FePt/Fe薄膜织构的影响分析 | 第31-34页 |
| ·Fe原子层对Glass/FePt/Fe薄膜磁性的影响分析 | 第34-38页 |
| ·小结 | 第38-40页 |
| 第四章 τ-MnAl多层模的制备与研究 | 第40-52页 |
| ·样品制备与检测 | 第41-42页 |
| ·退火温度对薄膜织构和磁性的影响 | 第42-44页 |
| ·界面对薄膜织构和磁性的影响 | 第44-48页 |
| ·衬底对薄膜性质的影响 | 第48-51页 |
| ·GaAs衬对薄膜磁性的影响 | 第48-50页 |
| ·退火温度对薄膜磁性的影响 | 第50页 |
| ·退火时间对薄膜磁性的影响 | 第50-51页 |
| ·小结 | 第51-52页 |
| 第五章 总结与展望 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-56页 |
| 硕士期间已发表论文 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |