铁磁/亚铁磁双层膜的制备及研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| ·前言 | 第8-9页 |
| ·磁记录发展历史及展望 | 第9-11页 |
| ·硬盘存储技术原理 | 第11-15页 |
| ·磁盘基本结构 | 第11-12页 |
| ·磁记录原理 | 第12-14页 |
| ·超高密度磁记录对介质材料的要求 | 第14-15页 |
| ·小结 | 第15-16页 |
| 第二章 薄膜的制备及测量 | 第16-24页 |
| ·薄膜的制备 | 第16-19页 |
| ·溅射镀膜原理 | 第16-17页 |
| ·实验设备 | 第17-19页 |
| ·溅射参数对样品性质的影响 | 第19页 |
| ·测量技术 | 第19-24页 |
| ·膜厚的测量 | 第19-20页 |
| ·成分的测量 | 第20-21页 |
| ·结构的测量 | 第21页 |
| ·磁性的测量 | 第21-24页 |
| 第三章 大场纵向表面磁光克尔效应测量系统的改进 | 第24-35页 |
| ·基本原理及技术背景 | 第24-27页 |
| ·磁光克尔效应及法拉第效应原理 | 第24-26页 |
| ·技术背景 | 第26-27页 |
| ·实验装置及原理简介 | 第27-31页 |
| ·实验装置简介 | 第27-30页 |
| ·增加透镜导致的法拉第效应分析 | 第30-31页 |
| ·结果与讨论 | 第31-34页 |
| ·法拉第效应定标 | 第31-33页 |
| ·FePt样品测量 | 第33-34页 |
| ·小结 | 第34-35页 |
| 第四章 铁磁/亚铁磁双层膜的制备及研究 | 第35-52页 |
| ·FePtCu薄膜有序化研究 | 第35-42页 |
| ·实验 | 第36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-42页 |
| ·小结 | 第42页 |
| ·非晶TbFeCo单层膜的制备 | 第42-46页 |
| ·实验 | 第42页 |
| ·结果与讨论 | 第42-46页 |
| ·小结 | 第46页 |
| ·FePt/TbFeCo双层耦合膜的研究 | 第46-52页 |
| ·实验 | 第47页 |
| ·结果与讨论 | 第47-51页 |
| ·小结 | 第51-52页 |
| 第五章 总结与展望 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 硕士期间已发表论文 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-60页 |
