掺锑二氧化锡薄膜（ATO）的制备及其性质研究

摘要	第1-8页
Abstract	第8-12页
第一章 绪论	第12-26页
·引言	第12页
·ATO薄膜的研究现状	第12-13页
·ATO薄膜的制备技术	第13-18页
·薄膜特性的表征方法	第18-24页
·本文研究目的及意义	第24-26页
第二章 薄膜样品的制备	第26-31页
·薄膜样品的制备流程	第26-28页
·改进的薄膜样品的制备流程	第28-29页
·本章小结	第29-31页
第三章 ATO薄膜的结构和成分分析	第31-41页
·ATO薄膜的XRD分析	第31-36页
·ATO薄膜的SEM分析	第36-37页
·ATO薄膜的XPS分析	第37-40页
·本章小结	第40-41页
第四章 ATO薄膜的光学特性分析	第41-49页
·ATO薄膜的椭偏光谱	第41-47页
·ATO薄膜的反射光谱	第47-48页
·本章小结	第48-49页
第五章 ATO薄膜的电学特性分析	第49-60页
·方块电阻分析	第49-50页
·MOS结构介电特性分析	第50-59页
·本章小结	第59-60页
第六章 结论及展望	第60-62页
·本文结论	第60-61页
·展望	第61-62页
参考文献	第62-66页
致谢	第66-67页
攻读学位期间发表的学术论文目录	第67页