摘要 | 第4-6页 |
abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第15-43页 |
1.1 低吸收红外薄膜的应用及研究背景 | 第15-17页 |
1.2 红外薄膜制备技术 | 第17-23页 |
1.2.1 基板材料选取和清洗工艺 | 第18-20页 |
1.2.2 薄膜材料的选取 | 第20页 |
1.2.3 薄膜制备方法 | 第20-22页 |
1.2.4 工艺参数的确定 | 第22-23页 |
1.3 薄膜吸收检测技术 | 第23-26页 |
1.3.1 分光光度计法 | 第23-24页 |
1.3.2 激光量热法 | 第24-26页 |
1.3.3 光热法 | 第26页 |
1.4 红外薄膜的水吸收 | 第26-35页 |
1.4.1 红外薄膜水吸收分析方法 | 第27-31页 |
1.4.2 减少红外薄膜水吸收的方法 | 第31-35页 |
1.5 低吸收红外薄膜国内外发展现状 | 第35-42页 |
1.5.1 低吸收红外激光薄膜 | 第35-38页 |
1.5.2 红外增透膜及其环境稳定性 | 第38-42页 |
1.6 本文的主要研究内容 | 第42-43页 |
第2章 低吸收薄膜的设计理论 | 第43-67页 |
2.1 光学薄膜的光学特性计算方法 | 第43-46页 |
2.2 用势透射率分析光学薄膜的吸收 | 第46-49页 |
2.3 高反射膜的吸收 | 第49-52页 |
2.4 增透膜的吸收 | 第52-53页 |
2.5 窄带滤光片的吸收 | 第53-54页 |
2.6 薄膜消光系数的精确测量 | 第54-65页 |
2.6.1 三种膜系结构的高反射膜的吸收 | 第54-58页 |
2.6.2 基于高反射膜吸收确定薄膜的消光系数 | 第58-64页 |
2.6.3 消光系数测量结果 | 第64-65页 |
2.7 本章小结 | 第65-67页 |
第3章 氟化镱薄膜的折射率测量与工艺参数对其性能的影响 | 第67-93页 |
3.1 薄膜光学常数的主要测量方法 | 第67-74页 |
3.1.1 椭圆偏振法 | 第67-68页 |
3.1.2 全光谱拟合法 | 第68-70页 |
3.1.3 两种测量方法的比较 | 第70-74页 |
3.2 包裹在薄膜内层氟化镱薄膜的红外折射率 | 第74-79页 |
3.2.1 基底的折射率 | 第74-76页 |
3.2.2 硫化锌薄膜的折射率 | 第76-77页 |
3.2.3 包裹在膜层内的氟化镱薄膜的折射率 | 第77-79页 |
3.3 基板温度对氟化镱薄膜性能的影响 | 第79-85页 |
3.3.1 基板温度对氟化镱薄膜光学性能的影响 | 第79-82页 |
3.3.2 基板温度对氟化镱薄膜应力的影响 | 第82-83页 |
3.3.3 基板温度对氟化镱薄膜晶体结构的影响 | 第83-84页 |
3.3.4 基板温度对氟化镱薄膜粗糙度的影响 | 第84-85页 |
3.3.5 基板温度对氟化镱薄膜散射的影响 | 第85页 |
3.4 APS离子源偏置电压对氟化镱薄膜性能的影响 | 第85-91页 |
3.4.1 偏置电压对氟化镱薄膜光学性能的影响 | 第86-89页 |
3.4.2 偏置电压对氟化镱薄膜应力的影响 | 第89页 |
3.4.3 偏置电压对氟化镱薄膜晶体结构的影响 | 第89-90页 |
3.4.4 偏置电压对氟化镱薄膜粗糙度的影响 | 第90-91页 |
3.4.5 偏置电压对氟化镱薄膜散射的影响 | 第91页 |
3.5 本章小结 | 第91-93页 |
第4章 低缺陷密度红外薄膜制备工艺 | 第93-107页 |
4.1 薄膜缺陷的观测与表征 | 第94-95页 |
4.2 制备工艺对薄膜缺陷的影响 | 第95-100页 |
4.2.1 沉积速率对薄膜缺陷的影响 | 第95-97页 |
4.2.2 基板温度对薄膜缺陷的影响 | 第97-99页 |
4.2.3 沉积方式对薄膜缺陷的影响 | 第99-100页 |
4.3 多层薄膜的缺陷 | 第100-105页 |
4.3.1 不同工艺沉积多层膜的缺陷比较 | 第100-104页 |
4.3.2 不同工艺沉积多层膜的吸收比较 | 第104-105页 |
4.4 本章小结 | 第105-107页 |
第5章 基于保护层技术改善红外薄膜环境稳定性 | 第107-121页 |
5.1 氟化镱薄膜的水吸收分析 | 第107-110页 |
5.2 硫化锌保护层技术 | 第110-115页 |
5.2.1 不同厚度硫化锌保护层对水汽的保护作用 | 第110-112页 |
5.2.2 硫化锌保护层的环境稳定性 | 第112-115页 |
5.3 氧化铪保护层技术 | 第115-119页 |
5.3.1 不同厚度氧化铪保护层对水汽的保护作用 | 第115-117页 |
5.3.2 氧化铪保护层的环境稳定性 | 第117-119页 |
5.4 本章小结 | 第119-121页 |
第6章 低吸收红外薄膜的研制 | 第121-139页 |
6.1 低吸收中波红外反射镜的研制 | 第121-126页 |
6.1.1 膜系优化设计与分析 | 第121-124页 |
6.1.2 膜系制备与测试结果 | 第124-126页 |
6.2 六波长硫化锌窗口膜系的研制 | 第126-137页 |
6.2.1 膜系优化设计与分析 | 第126-130页 |
6.2.2 膜层厚度校正 | 第130-133页 |
6.2.3 膜系制备与测试结果 | 第133-137页 |
6.3 本章小结 | 第137-139页 |
第7章 全文总结 | 第139-141页 |
参考文献 | 第141-153页 |
致谢 | 第153-155页 |
作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第155-156页 |