球面光学元件表面193nm增透膜光谱均匀性优化技术研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第14-28页 |
| 1.1 193nm镀膜技术应用背景 | 第14-18页 |
| 1.2 193nm光刻机镀膜技术难点 | 第18-24页 |
| 1.2.1 镀膜材料和方法 | 第19-20页 |
| 1.2.2 薄膜厚度均匀性 | 第20-23页 |
| 1.2.3 膜系设计 | 第23-24页 |
| 1.3 193nm光刻机镀膜技术进展 | 第24-27页 |
| 1.3.1 厚度均匀性修正方法进展 | 第24-26页 |
| 1.3.2 增透膜设计方法进展 | 第26-27页 |
| 1.4 本论文的研究目的与主要研究内容 | 第27-28页 |
| 第2章 实验和分析方法 | 第28-44页 |
| 2.1 镀膜方法 | 第28-31页 |
| 2.1.1 镀膜设备介绍 | 第28-30页 |
| 2.1.2 测试基板 | 第30-31页 |
| 2.1.3 工艺流程 | 第31页 |
| 2.2 薄膜表征方法 | 第31-36页 |
| 2.2.1 微结构测量设备 | 第32-33页 |
| 2.2.2 光学特征测量设备 | 第33-36页 |
| 2.3 薄膜设计方法 | 第36-43页 |
| 2.3.1 光学导纳矩阵方法 | 第37-40页 |
| 2.3.2 镀膜基板光谱计算 | 第40-41页 |
| 2.3.3 多参数优化 | 第41-43页 |
| 2.4 本章小结 | 第43-44页 |
| 第3章 球面光学元件上薄膜厚度均匀性优化 | 第44-62页 |
| 3.1 均匀性修正挡板设计 | 第44-51页 |
| 3.1.1 理论基础 | 第44-47页 |
| 3.1.2 修正挡板的建模方法 | 第47-48页 |
| 3.1.3 修正挡板的设计方法 | 第48-51页 |
| 3.2 膜厚均匀性的理论优化 | 第51-55页 |
| 3.3 沉积模型优化 | 第55-59页 |
| 3.3.1 厚度均匀性的实验测量 | 第55-56页 |
| 3.3.2 沉积模型优化 | 第56-59页 |
| 3.4 结果和讨论 | 第59-60页 |
| 3.5 本章小结 | 第60-62页 |
| 第4章 球面光学元件上氟化物单层膜的性质 | 第62-80页 |
| 4.1 研究背景 | 第62-63页 |
| 4.2 单层膜镀膜参数优化 | 第63-66页 |
| 3.4.1 基板处理方式 | 第63-65页 |
| 3.4.2 沉积速率 | 第65-66页 |
| 4.3 单层膜微结构 | 第66-73页 |
| 4.3.1 微结构测量方法 | 第66-67页 |
| 4.3.2 薄膜倾角 | 第67-68页 |
| 4.3.3 矢量束流生长模型 | 第68-72页 |
| 4.3.4 倾角对生长模式的修正 | 第72-73页 |
| 4.4 氟化物单层膜光谱性质 | 第73-79页 |
| 4.4.1 理想单层膜的光谱 | 第73-75页 |
| 4.4.2 氟化物单层膜光谱 | 第75-79页 |
| 4.5 本章小结 | 第79-80页 |
| 第5章 球面光学元件上增透膜光谱均匀性 | 第80-102页 |
| 5.1 宽角度入射增透膜设计理论 | 第80-84页 |
| 5.1.1 增透膜设计的解析方法 | 第80-81页 |
| 5.1.2 增透膜设计的数值方法 | 第81页 |
| 5.1.3 入射角度和增透膜带宽的关系 | 第81-84页 |
| 5.2 氟化物增透膜设计和制备问题 | 第84-86页 |
| 5.3 光谱特征优化 | 第86-93页 |
| 5.3.1 单层膜厚度的准确确定 | 第86-89页 |
| 5.3.2 界面粗糙度的确定 | 第89-90页 |
| 5.3.3 折射率非均匀性对光谱的影响 | 第90-92页 |
| 5.3.4 宽角度入射增透膜光谱的优化 | 第92-93页 |
| 5.4 球面光学元件上增透膜的光谱均匀性 | 第93-97页 |
| 5.4.1 单层膜厚度均匀性模拟 | 第93-94页 |
| 5.4.2 增透膜光谱均匀性优化 | 第94-97页 |
| 5.5 增透膜光学损耗 | 第97-99页 |
| 5.6 本章小结 | 第99-102页 |
| 第6章 总结与展望 | 第102-106页 |
| 6.1 本论文的主要研究内容 | 第102页 |
| 6.2 本论文的主要创新点 | 第102-103页 |
| 6.3 论文工作对光刻机系统研发的意义 | 第103-104页 |
| 6.4 后续工作展望 | 第104-106页 |
| 参考文献 | 第106-112页 |
| 致谢 | 第112-114页 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第114-115页 |
