| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 光伏技术的发展历程 | 第11页 |
| 1.2 太阳能电池的现状与市场前景 | 第11-14页 |
| 1.3 太阳能光伏技术的分类 | 第14-16页 |
| 1.4 论文主要内容及创新点 | 第16-18页 |
| 2 相关理论 | 第18-32页 |
| 2.1 太阳能电池的工作原理 | 第18-21页 |
| 2.2 Si基太阳能电池 | 第21-22页 |
| 2.3 砷化镓Ⅲ-Ⅴ族太阳能电池 | 第22-25页 |
| 2.4 纳米线\纳米柱太阳能电池 | 第25-28页 |
| 2.5 聚光叠层太阳能电池 | 第28-32页 |
| 3 纳米结构制作工艺介绍 | 第32-37页 |
| 3.1 VLS生长法 | 第32-33页 |
| 3.2 MacEtch法 | 第33-35页 |
| 3.3 ICP-RIE干法刻蚀工艺 | 第35-37页 |
| 4 掩膜制作工艺 | 第37-45页 |
| 4.1 电子束直写曝光(Electron Beam Lithography,EBL) | 第37-38页 |
| 4.2 旋涂法(spin coating) | 第38-39页 |
| 4.3 限制空间注射法 | 第39-40页 |
| 4.4 Langmuir-Blodgett (LB)膜技术 | 第40-42页 |
| 4.5 双光束干涉二次曝光法 | 第42-44页 |
| 4.6 气液界面自组装法 | 第44-45页 |
| 5 纳米柱与纳米锥的制作与测试 | 第45-61页 |
| 5.1 SiO_2小球阵列掩膜制作 | 第45-48页 |
| 5.1.1 衬底准备 | 第45-46页 |
| 5.1.2 SiO_2纳米小球的准备 | 第46-48页 |
| 5.2 纳米结构刻蚀 | 第48-53页 |
| 5.2.1 SiO_2干法刻蚀工艺 | 第49页 |
| 5.2.2 纳米柱干法刻蚀工艺 | 第49-51页 |
| 5.2.3 纳米锥干法刻蚀工艺 | 第51-53页 |
| 5.3 样品性能测试方法 | 第53-54页 |
| 5.4 GaAs纳米结构光学特性分析 | 第54-61页 |
| 5.4.1 时域有限差分法简介 | 第54-55页 |
| 5.4.2 不同直径纳米柱阵列光学特性仿真与测量 | 第55-59页 |
| 5.4.3 纳米柱与纳米锥光学特性对比 | 第59-61页 |
| 6 聚焦型菲涅尔透镜 | 第61-69页 |
| 6.1 惠更斯-菲涅耳原理 | 第61-62页 |
| 6.2 菲涅尔波带法 | 第62-63页 |
| 6.3 菲涅尔透镜建模与仿真结果 | 第63-69页 |
| 6.3.1 聚焦效果 | 第65-66页 |
| 6.3.2 减反射效果分析 | 第66-67页 |
| 6.3.3 促吸收效果分析 | 第67-69页 |
| 7 总结与展望 | 第69-72页 |
| 7.1 总结 | 第69-70页 |
| 7.2 展望 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-80页 |
| 附录 | 第80页 |
| 作者简历 | 第80页 |
| 成果附录 | 第80页 |