高温薄膜热流传感器功能结构层制备工艺
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 课题背景及意义 | 第9-14页 |
| 1.1.1 热流传感器的产生与发展 | 第9-10页 |
| 1.1.2 热流传感器的分类 | 第10-13页 |
| 1.1.3 热流传感器的应用 | 第13-14页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第14-16页 |
| 1.2.1 热流传感器的研制 | 第14-16页 |
| 1.3 本课题研究内容 | 第16-18页 |
| 2 薄膜热流传感器总体方案设计 | 第18-32页 |
| 2.1 薄膜热流传感器测量原理 | 第18-21页 |
| 2.1.1 热阻式热流传感器 | 第18-19页 |
| 2.1.2 热电堆式热流传感器测量原理 | 第19-21页 |
| 2.2 薄膜热电偶的工作原理 | 第21-25页 |
| 2.2.1 热电效应的产生和组成 | 第21-24页 |
| 2.2.2 热电偶测温的四个重要条件 | 第24-25页 |
| 2.3 热流传感器的结构设计 | 第25-32页 |
| 2.3.1 热电堆的设计方案 | 第26-28页 |
| 2.3.2 热阻层的结构设计 | 第28-29页 |
| 2.3.3 基底材料的选择 | 第29页 |
| 2.3.4 理论计算 | 第29-32页 |
| 3 电射流沉积SiO_2热阻层 | 第32-46页 |
| 3.1 电射流沉积实验装置 | 第32-34页 |
| 3.2 SiO_2悬浮液的制备 | 第34-36页 |
| 3.3 电射流沉积SiO_2工艺过程 | 第36-37页 |
| 3.4 电射流参数对薄膜的影响 | 第37-41页 |
| 3.4.1 沉积高度对薄膜的影响 | 第37-39页 |
| 3.4.2 扫描间距对薄膜的影响 | 第39-41页 |
| 3.4.3 热处理对薄膜的影响 | 第41页 |
| 3.5 SiO_2薄膜的沉积 | 第41-42页 |
| 3.6 瞬态热反射法测薄膜热导率 | 第42-46页 |
| 3.6.1 测试原理 | 第42-44页 |
| 3.6.2 SiO_2薄膜热导率测试 | 第44-46页 |
| 4 薄膜热电堆的制备 | 第46-59页 |
| 4.1 确定制作流程 | 第46-47页 |
| 4.2 剥离工艺制备热电堆 | 第47-50页 |
| 4.2.1 光刻工艺 | 第47-49页 |
| 4.2.2 磁控溅射热电偶薄膜 | 第49-50页 |
| 4.3 基底粗糙化增加热电堆结合力 | 第50-53页 |
| 4.4 划痕法测试热电堆与基底的结合力 | 第53-59页 |
| 4.4.1 划痕法测试原理 | 第53-54页 |
| 4.4.2 测试结果分析 | 第54-59页 |
| 结论 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-64页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
