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基于CMOS工艺的单光子雪崩二极管研究

摘要第3-4页
abstract第4-5页
第1章 绪论第8-16页
    1.1 单光子探测技术背景第8-9页
    1.2 单光子探测器介绍第9-10页
    1.3 国内外研究现状第10-14页
    1.4 论文的主要内容和结构安排第14-16页
第2章 单光子探测基本理论第16-28页
    2.1 单光子雪崩二极管工作原理第16-18页
    2.2 单光子雪崩二极管主要性能参数第18-21页
        2.2.1 雪崩倍增因子第18-19页
        2.2.2 量子效率第19页
        2.2.3 响应度第19-20页
        2.2.4 暗计数第20-21页
        2.2.5 光子探测效率第21页
    2.3 单光子雪崩二极管淬灭电路第21-26页
        2.3.1 被动淬灭第22-23页
        2.3.2 主动淬灭第23-25页
        2.3.3 门控淬灭第25-26页
    2.4 本章小结第26-28页
第3章 经典保护环SPAD的设计与仿真第28-42页
    3.1 SPAD结构的发展第28-29页
    3.2 CMOS工艺下的保护环结构第29-31页
    3.3 经典保护环SPAD的仿真与分析第31-40页
        3.3.1 仿真软件SilvacoTCAD简介第31-32页
        3.3.2 仿真环境及结构建立第32-33页
        3.3.3 仿真结果与分析第33-40页
    3.4 本章小结第40-42页
第4章 新型非接触式保护环SPAD的设计与仿真第42-52页
    4.1 非接触式保护环SPAD结构设计第42-44页
    4.2 非接触式保护环SPAD仿真分析第44-48页
    4.3 门控模式下的暗计数和光子探测效率第48-51页
    4.4 本章小结第51-52页
第5章 单光子雪崩二极管探测单元第52-62页
    5.1 单光子雪崩二极管等效模型第52-53页
    5.2 单管被动淬灭-被动恢复电路第53-55页
    5.3 主动淬灭-主动恢复电路第55-59页
    5.4 被动淬灭-主动恢复电路第59-61页
    5.5 本章小结第61-62页
第6章 总结与展望第62-64页
    6.1 论文总结第62页
    6.2 研究展望第62-64页
参考文献第64-68页
发表论文和参与科研情况说明第68-70页
致谢第70页

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