| 摘要 | 第6-7页 |
| abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-23页 |
| 1.1 课题研究的背景和目的 | 第12页 |
| 1.2 国内外研究现状分析 | 第12-21页 |
| 1.2.1 国内外现状 | 第12-18页 |
| 1.2.2 磨粒有序化排布现状 | 第18-21页 |
| 1.3 课题的来源及意义 | 第21页 |
| 1.3.1 课题的来源 | 第21页 |
| 1.3.2 课题的研究意义 | 第21页 |
| 1.4 研究内容 | 第21-22页 |
| 1.5 本章小节 | 第22-23页 |
| 第2章 工程化油石珩磨平台表面的运动学 | 第23-41页 |
| 2.1 工程化油石的磨粒排布模型的建立 | 第23-25页 |
| 2.1.1 叶序理论与磨粒的叶序排布模型 | 第23-24页 |
| 2.1.2 磨粒阵列排布与磨粒的错位排布模型 | 第24-25页 |
| 2.2 有序排布磨粒油石珩磨平台表面的运动学条件 | 第25-33页 |
| 2.2.1 磨粒有序排布油石珩磨平台表面的轨迹方程建立 | 第25-30页 |
| 2.2.2 珩磨平台表面的珩磨的网纹角 | 第30-32页 |
| 2.2.3 珩磨平台表面的单磨粒切削深度 | 第32页 |
| 2.2.4 实现一致规则表面的珩磨运动学条件 | 第32-33页 |
| 2.3 有序排布磨粒油石珩磨一致化平台表面的运动学仿真 | 第33-39页 |
| 2.3.1 仿真的基本条件与策略 | 第33-35页 |
| 2.3.2 仿真结果与分析 | 第35-39页 |
| 2.4 本章小结 | 第39-41页 |
| 第3章 工程化油石的设计与制造 | 第41-71页 |
| 3.1 有序化排布掩膜的制备 | 第41-46页 |
| 3.1.1 掩膜的功能及性能要求 | 第41-42页 |
| 3.1.2 叶序排布掩膜选取 | 第42-43页 |
| 3.1.3 有序化排布掩膜的制备 | 第43-46页 |
| 3.2 磨料和电镀液的选择 | 第46-51页 |
| 3.2.1 电镀原理 | 第46-47页 |
| 3.2.2 磨料的选择 | 第47-48页 |
| 3.2.3 电镀液因素对电镀结果产生影响的分析。 | 第48-51页 |
| 3.3 有序化排布油石的制造工艺 | 第51-64页 |
| 3.3.1 电镀前处理 | 第51-60页 |
| 3.3.2 电镀设备介绍 | 第60-61页 |
| 3.3.3 电镀过程中植砂方法介绍 | 第61-62页 |
| 3.3.4 掩膜孔大小对油石植砂的影响 | 第62页 |
| 3.3.5 电镀工艺过程 | 第62-64页 |
| 3.4 电镀质量的检测 | 第64-66页 |
| 3.4.1 电镀镍层的要求 | 第64-65页 |
| 3.4.2 电镀镍层性能测试 | 第65-66页 |
| 3.5 非合格镍层的处理 | 第66-69页 |
| 3.6 本章小结 | 第69-71页 |
| 第4章 一致化平台表面的珩磨实验调查 | 第71-93页 |
| 4.1 实验方案设计 | 第71-77页 |
| 4.1.1 实验设备 | 第71-76页 |
| 4.1.2 实验系统的构建 | 第76-77页 |
| 4.2 一致化平台表面珩磨实验结果与分析 | 第77-87页 |
| 4.2.1 叶序排布磨粒油石珩磨 | 第77-80页 |
| 4.2.2 阵列排布磨粒油石珩磨 | 第80-84页 |
| 4.2.3 错位排布磨粒油石珩磨 | 第84-87页 |
| 4.3 油石珩磨后磨粒的磨损 | 第87-91页 |
| 4.3.1 油石表面磨粒磨损量的测量 | 第87-88页 |
| 4.3.2 磨粒有序化排布油石的磨损分析 | 第88-91页 |
| 4.4 本章小结 | 第91-93页 |
| 第五章 一致化平台表面的PVA油石珩磨后处理 | 第93-98页 |
| 5.1 珩磨用量及时间对形貌变化影响 | 第93-95页 |
| 5.2 珩磨用量对缺陷去除的的影响 | 第95-97页 |
| 5.2.1 珩磨缺陷 | 第95-97页 |
| 5.3 本章小结 | 第97-98页 |
| 结论 | 第98-100页 |
| 参考文献 | 第100-104页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和获得的科研成果 | 第104-105页 |
| 致谢 | 第105-106页 |