| 中文摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 主要缩略词表 | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-25页 |
| 1.1 热电偶 | 第10-13页 |
| 1.1.1 热电偶的构造和工作原理 | 第10-11页 |
| 1.1.2 微型热电偶 | 第11-13页 |
| 1.2 温度成像 | 第13-19页 |
| 1.2.1 发光温度计 | 第14-16页 |
| 1.2.2 不发光温度计 | 第16-19页 |
| 1.3 电化学微加工 | 第19-23页 |
| 1.3.1 基于扫描电化学显微镜的微加工技术 | 第19-22页 |
| 1.3.2 基于琼脂糖印章的电化学微加工技术 | 第22页 |
| 1.3.3 约束刻蚀层技术 | 第22-23页 |
| 1.4 本论文的研究目的、设想和内容 | 第23-25页 |
| 第二章 实验 | 第25-35页 |
| 2.1 试剂与仪器 | 第25-27页 |
| 2.1.1 材料试剂 | 第25-26页 |
| 2.1.2 仪器设备 | 第26-27页 |
| 2.2 实验步骤 | 第27-34页 |
| 2.2.1 电解池 | 第27-28页 |
| 2.2.2 电极处理 | 第28-29页 |
| 2.2.3 ITO/ZnO模板的制备和GaAs基底的处理 | 第29页 |
| 2.2.3.1 电沉积法制备ZnO | 第29页 |
| 2.2.3.2 GaAs基底的处理 | 第29页 |
| 2.2.4 微电极的制备 | 第29-34页 |
| 2.2.4.1 电阻圈加热法制备微电极 | 第29-31页 |
| 2.2.4.2 P-2000激光拉制仪用于拉制纳电极 | 第31-34页 |
| 2.3 表征技术与方法 | 第34-35页 |
| 第三章 一种新型热电偶微电极运用于扫描电化学显微镜成像和电化学实验 | 第35-48页 |
| 3.1 前言 | 第35-37页 |
| 3.2 热电偶微电极的制作 | 第37-40页 |
| 3.2.1 热电偶微电极的制作原理 | 第37页 |
| 3.2.2 热电偶微电极的制作流程 | 第37-38页 |
| 3.2.3 陶瓷加热装置与SECM的联用搭建 | 第38-40页 |
| 3.3 热电偶微电极的形貌表征 | 第40-41页 |
| 3.4 热电偶微电极的温度表征 | 第41-42页 |
| 3.5 热电偶微电极的电化学表征 | 第42-45页 |
| 3.6 热电偶微电极运用于SECM | 第45-47页 |
| 3.7 本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 R型热电偶温度检测系统与SECM联用成温度和电化学图像 | 第48-55页 |
| 4.1 前言 | 第48-49页 |
| 4.2 R型热电偶温度检测系统与SECM联用装置的搭建 | 第49-51页 |
| 4.3 R型热电偶温度检测系统与SECM联用装置应用于自制的铜基底同时成温度图像和SECM图像 | 第51-52页 |
| 4.4 R型热电偶温度检测系统与SECM联用装置应用于自制的铜阵列基底成不同温度下的SECM图像和PSC图像 | 第52-54页 |
| 4.5 本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 升温电化学微加工应用于刻蚀半导体n-GaAs和ZnO纳米线 | 第55-65页 |
| 5.1 前言 | 第55-56页 |
| 5.2 高频交流电升温体系的搭建 | 第56-59页 |
| 5.2.1 印刷电路板的制作 | 第56页 |
| 5.2.2 高频装置的搭建 | 第56-57页 |
| 5.2.3 功率对高频升温的影响 | 第57-58页 |
| 5.2.4 高频装置用于不同体系下的升温结果 | 第58-59页 |
| 5.3 高频升温装置与SECM联用用于刻蚀ZnO | 第59-63页 |
| 5.3.1 刻蚀原理 | 第59-60页 |
| 5.3.2 联用装置的搭建 | 第60-61页 |
| 5.3.3 刻蚀结果 | 第61-63页 |
| 5.4 高频升温装置与SECM联用用于刻蚀GaAs研究温度对动力学参数的影响 | 第63-64页 |
| 5.5 本章小结 | 第64-65页 |
| 第六章 论文的一些探讨和展望 | 第65-68页 |
| 6.1 前言 | 第65页 |
| 6.2 热电偶微电极的优化 | 第65-66页 |
| 6.3 温度与电化学成像联用系统的应用展望 | 第66-68页 |
| 结论 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 个人简历 | 第80页 |
| 在读期间的研究成果及发表的学术论文 | 第80页 |
