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用于深紫外光电器件的AlxGa1-xN基外延材料生长与掺杂研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
1 绪论第9-12页
    1.1 研究背景和意义第9-10页
    1.2 AlGaN 器件生长难点第10页
    1.3 文章结构第10-12页
2 AlGaN 材料性质、制备及表征第12-24页
    2.1 AlGaN 材料性质介绍第12-14页
    2.2 AlGaN 材料器件结构介绍第14-16页
    2.3 AlGaN 材料的制备第16-18页
    2.4 AlGaN 材料表征第18-23页
    2.5 本章小结第23-24页
3 AlN 模板质量的优化生长研究第24-39页
    3.1 生长方式及反应条件第24-26页
    3.2 低温层温度对 AlN 模板质量影响的研究第26-33页
        3.2.1 实验方案及过程第26-28页
        3.2.2 测量结果与数据分析第28-33页
    3.3 Ⅴ/Ⅲ对 PALE-AlN 层质量影响的研究第33-38页
        3.3.1 实验方案及过程第33-34页
        3.3.2 测试结果与数据分析第34-38页
    3.4 本章小结第38-39页
4 AlGaN 材料 n 型掺杂研究第39-51页
    4.1 n-Al_(0.65)Ga_(0.35)N 晶体质量的优化第39-45页
        4.1.1 实验方案及过程第39-41页
        4.1.2 测量结果与数据分析第41-45页
    4.2 Al 组分的不同对 n-AlGaN 晶体质量的影响第45-49页
    4.3 本章小结第49-51页
5 p-GaN 材料生长掺杂研究第51-58页
    5.1 实验方案及过程第52-53页
    5.2 测量结果与数据分析第53-57页
    5.3 本章小结第57-58页
6 总结与展望第58-60页
致谢第60-61页
参考文献第61-65页

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