| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-28页 |
| 1.1 半导体集成电路行业废物产生现状 | 第9-20页 |
| 1.1.1 半导体集成电路制造业简介 | 第9-11页 |
| 1.1.2 半导体集成电路制造业所产生的废物来源 | 第11-14页 |
| 1.1.3 半导体集成电路制造业所产生的废物种类 | 第14-16页 |
| 1.1.4 半导体集成电路制造业所产生的废物处理现状 | 第16-17页 |
| 1.1.5 半导体集成电路制造业废物综合利用现状 | 第17-20页 |
| 1.2 半导体集成电路行业含氟废物综述 | 第20-26页 |
| 1.2.1 含氟废物的危害 | 第20-21页 |
| 1.2.2 半导体集成电路制造业含氟废物的来源 | 第21-23页 |
| 1.2.3 含氟废水的处理方法简介 | 第23-24页 |
| 1.2.4 含氟污泥的综合利用概述 | 第24-26页 |
| 1.3 本课题的研究目的、意义及内容 | 第26-28页 |
| 1.3.1 研究目的及意义 | 第26-27页 |
| 1.3.2 主要研究内容 | 第27-28页 |
| 2 半导体行业含氟废水处理方案 | 第28-38页 |
| 2.1 引言 | 第28页 |
| 2.2 实验部分 | 第28-33页 |
| 2.2.1 实验用的试剂和仪器设备 | 第28-29页 |
| 2.2.2 分析方法 | 第29页 |
| 2.2.3 实验方法 | 第29-33页 |
| 2.3 实验结果与讨论 | 第33-36页 |
| 2.3.1 单因素实验结果 | 第33页 |
| 2.3.2 实际应用情况 | 第33-36页 |
| 2.4 本章小结 | 第36-38页 |
| 3 半导体行业含氟污泥的综合利用 | 第38-45页 |
| 3.1 引言 | 第38-39页 |
| 3.2 实验部分 | 第39-41页 |
| 3.2.1 实验用的试剂和仪器设备 | 第39-40页 |
| 3.2.2 实验方法 | 第40-41页 |
| 3.3 实验结果及讨论 | 第41-44页 |
| 3.3.1 化学组成 | 第41-42页 |
| 3.3.2 危险特性认定结果 | 第42页 |
| 3.3.3 氟化钙污泥在水泥制造行业中的资源化利用 | 第42-44页 |
| 3.4 本章小结 | 第44-45页 |
| 4 半导体行业含氟废物的综合利用设计方案及技术经济分析 | 第45-53页 |
| 4.1 引言 | 第45页 |
| 4.2 半导体行业含氟废物处理工艺流程 | 第45-49页 |
| 4.3 设计及经济分析 | 第49-52页 |
| 4.3.1 主要设备投资预算 | 第49-50页 |
| 4.3.2 运行费用 | 第50页 |
| 4.3.3 经济效益与社会效益分析 | 第50-52页 |
| 4.4 本章小结 | 第52-53页 |
| 结论与展望 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
