摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
引言 | 第8-10页 |
1 太阳能电池表面钝化 | 第10-19页 |
1.1 表面钝化工艺 | 第10-12页 |
1.1.1 表面钝化工艺的发展 | 第10页 |
1.1.2 硅片表面钝化的结构和特性 | 第10-12页 |
1.2 表面钝化工艺在太阳能电池领域的应用 | 第12-16页 |
1.2.1 太阳能电池表面钝化 | 第12-14页 |
1.2.2 太阳能电池表面钝化膜的简介 | 第14-16页 |
1.3 黑硅太阳能电池表面钝化 | 第16-19页 |
1.3.1 黑硅太阳能电池 | 第16-17页 |
1.3.2 黑硅太阳能电池的钝化 | 第17-19页 |
2 实验表征设备 | 第19-26页 |
2.1 扫描电子显微镜 | 第19-21页 |
2.2 准稳态光电导衰减 | 第21-22页 |
2.3 量子效率测量系统 | 第22-23页 |
2.4 反射率测量系统 | 第23-25页 |
2.5 电化学电容电压(ECV) | 第25-26页 |
3 黑硅太阳能电池表面调控 | 第26-38页 |
3.1 纳米结构的制备 | 第26-29页 |
3.1.1 纳米结构制备方法 | 第26页 |
3.1.2 纳米结构制备原理 | 第26-27页 |
3.1.3 纳米结构的形貌及其光学特性 | 第27-29页 |
3.2 黑硅太阳能电池制备 | 第29-30页 |
3.3 黑硅太阳能电池的表面调控 | 第30-37页 |
3.3.1 黑硅纳米线的调控 | 第31-32页 |
3.3.2 黑硅太阳能电池的表面复合 | 第32-35页 |
3.3.3 黑硅太阳能电池的内量子效率 | 第35-37页 |
3.4 本章小结 | 第37-38页 |
4 黑硅太阳能电池制备与表面钝化 | 第38-47页 |
4.1 黑硅太阳能电池钝化膜的制备 | 第38-43页 |
4.1.1 SiO_2钝化膜的制备 | 第38-40页 |
4.1.2 SiN_x:H钝化膜的制备 | 第40-41页 |
4.1.3 SiO_2/SiN_x:H叠层钝化膜的制备 | 第41-43页 |
4.2 不同钝化膜对黑硅太阳能电池的作用 | 第43-45页 |
4.3 本章小结 | 第45-47页 |
结论 | 第47-48页 |
参考文献 | 第48-52页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第52-53页 |
致谢 | 第53-54页 |