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罐装SO2用于制糖澄清工段的硫熏强度模糊PID控制系统研究

摘要第4-6页
ABSTRACT第6-7页
第一章 绪论第11-17页
    1.1 引言第11页
    1.2 硫熏中和概述第11-12页
    1.3 国内外研究现状第12-15页
        1.3.1 硫熏中和过程中液态二氧化硫的应用第12-13页
        1.3.2 硫熏强度的自动控制第13-14页
        1.3.3 模糊控制理论及在PLC上的应用第14-15页
    1.4 课题背景及研究意义第15页
    1.5 本文主要研究内容第15-17页
第二章 硫熏强度串级比值控制系统总体设计第17-31页
    2.1 二氧化硫制备第17-18页
        2.1.1 传统燃硫法第17页
        2.1.2 超临界压缩罐装二氧化硫气化第17-18页
    2.2 空气与SO_2的串级比值控制方案第18-23页
        2.2.1 液态二氧化硫用于硫熏中和的控制要求第18-19页
        2.2.2 硫熏强度比值控制方案分析和对比第19-21页
        2.2.3 硫熏强度串级比值控制方案第21-23页
    2.3 硫熏强度串级比值控制系统硬件组成第23-27页
        2.3.1 澄清工段的工艺参数计算第23-24页
        2.3.2 硫熏强度串级比值控制系统的硬件组成第24-27页
    2.4 控制系统的数学模型分析第27-30页
    2.5 本章小结第30-31页
第三章 硫熏强度模糊PID控制器设计与应用仿真第31-48页
    3.1 模糊PID控制器的工作原理第31-33页
        3.1.1 模糊控制器结构第31页
        3.1.2 PID控制原理第31-32页
        3.1.3 模糊PID控制器的组成第32-33页
    3.2 硫熏强度模糊PID控制器设计第33-35页
        3.2.1 模糊控制器的设计步骤第33页
        3.2.2 论域选择及参数确定第33页
        3.2.3 语言变量及隶属函数确定第33-34页
        3.2.4 模糊控制规则确定第34-35页
        3.2.5 模糊推理及去模糊方法第35页
    3.3 硫熏强度模糊PID控制器的应用仿真第35-47页
        3.3.1 Fuzzy Logic Toolbox简介第35-36页
        3.3.2 Matlab中模糊控制器的设计第36-39页
        3.3.3 控制器建模与封装第39-40页
        3.3.4 建立系统模型及仿真第40-47页
    3.4 本章小结第47-48页
第四章 模糊PID控制算法的硬件实现第48-61页
    4.1 S7-200PLC及编程软件概述第48页
    4.2 PID指令及数据块介绍第48-50页
        4.2.1 PID指令第48-49页
        4.2.2 PID回路表第49-50页
        4.2.3 数据块的编写方法第50页
    4.3 硫熏强度模糊PID控制算法的编程实现第50-60页
        4.3.1 输入量的模糊化程序设计第52-55页
        4.3.2 模糊控制表查询的程序设计第55-57页
        4.3.3 输出量的去模糊化程序设计第57-58页
        4.3.4 模糊PID控制输出程序设计第58-59页
        4.3.5 主程序及中断程序设计第59-60页
    4.4 本章小结第60-61页
第五章 上位机监控系统设计第61-69页
    5.1 人机界面和组态软件概述第61-63页
        5.1.1 人机界面概述第61页
        5.1.2 组态软件选择第61-62页
        5.1.3 WinCC flexible的组态步骤第62-63页
    5.2 硫熏强度上位机监控系统设计第63-66页
        5.2.1 上位机监控系统结构与要求分析第63页
        5.2.2 上位机控制软件结构第63-66页
    5.3 系统模拟实验第66-68页
        5.3.1 模拟实验平台第66页
        5.3.2 模拟实验及分析第66-68页
    5.4 本章小结第68-69页
第六章 总结及展望第69-71页
    6.1 总结第69页
    6.2 展望第69-71页
参考文献第71-75页
致谢第75-76页
攻读学位期间发表的学术论文第76-77页
附录第77-83页

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