| 缩略词 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-30页 |
| 1.1 酞菁和三氮杂四苯并呵啰简介 | 第10-12页 |
| 1.1.1 历史 | 第10-11页 |
| 1.1.2 骨架结构 | 第11-12页 |
| 1.2 酞菁的合成 | 第12-17页 |
| 1.2.1 无取代酞菁 | 第14页 |
| 1.2.2 四取代酞菁 | 第14-15页 |
| 1.2.3 八取代酞菁 | 第15-16页 |
| 1.2.4 十六取代酞菁 | 第16页 |
| 1.2.5 轴向取代酞菁 | 第16-17页 |
| 1.3 三氮杂四苯并呵啰的合成 | 第17-20页 |
| 1.3.1 PBr3还原无金属酞菁(H2Pc) | 第18页 |
| 1.3.2 NaBH4还原(非)金属酞菁(MPc) | 第18-19页 |
| 1.3.3 其它 | 第19页 |
| 1.3.4 结构鉴定 | 第19-20页 |
| 1.4 酞菁和三氮杂四苯并呵啰的光敏化相关性质 | 第20-21页 |
| 1.4.1 荧光光谱 | 第20页 |
| 1.4.2 三重态 | 第20-21页 |
| 1.4.3 单线态氧 | 第21页 |
| 1.4.4 其它 | 第21页 |
| 1.5 酞菁的溶剂效应 | 第21-24页 |
| 1.5.1 溶剂对紫外可见吸收光谱的影响 | 第22-23页 |
| 1.5.2 溶剂对荧光光谱的影响 | 第23-24页 |
| 1.6 酞菁的应用 | 第24-27页 |
| 1.6.1 光动力疗法 | 第24-25页 |
| 1.6.2 染料敏化太阳能电池 | 第25页 |
| 1.6.3 非线性光学材料 | 第25-26页 |
| 1.6.4 其它 | 第26-27页 |
| 1.7 三氮杂四苯并呵啰的应用 | 第27-28页 |
| 1.8 论文选题依据、意义及主要工作 | 第28-30页 |
| 1.8.1 选题依据和意义 | 第28页 |
| 1.8.2 主要工作 | 第28-30页 |
| 第二章 八丁氧基取代的酞菁和三氮杂四苯并呵啰的合成与光物理、光化学及电化学性质 | 第30-53页 |
| 2.1 前言 | 第30页 |
| 2.2 试剂与仪器 | 第30-32页 |
| 2.2.1 实验仪器 | 第30-31页 |
| 2.2.2 实验药品 | 第31-32页 |
| 2.3 实验过程 | 第32-39页 |
| 2.3.1 酞菁前体的合成 | 第32-34页 |
| 2.3.2 酞菁的合成 | 第34-35页 |
| 2.3.3 三氮杂四苯并呵啰的合成 | 第35-36页 |
| 2.3.4 光谱测定 | 第36-39页 |
| 2.4 结果与讨论 | 第39-52页 |
| 2.4.1 合成步骤 | 第39-40页 |
| 2.4.2 光谱分析 | 第40-51页 |
| 2.4.3 电化学性质 | 第51-52页 |
| 2.5 小结 | 第52-53页 |
| 第三章 四异丙氧基取代酞菁吸收及荧光性质的溶剂效应 | 第53-67页 |
| 3.1 前言 | 第53-54页 |
| 3.2 实验部分 | 第54-55页 |
| 3.2.1 试剂与仪器 | 第54页 |
| 3.2.2 样品制备 | 第54页 |
| 3.2.3 光物理测试 | 第54-55页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第55-65页 |
| 3.3.1 醇类溶剂 | 第55-58页 |
| 3.3.2 胺类溶剂 | 第58-61页 |
| 3.3.3 非质子溶剂 | 第61-65页 |
| 3.3.4 溶剂极性对斯托克位移(Δυ)的影响 | 第65页 |
| 3.4 小结 | 第65-67页 |
| 第四章 结论和创新点 | 第67-69页 |
| 4.1 结论 | 第67-68页 |
| 4.2 创新点 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-79页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第79-80页 |
| 附录 | 第80-87页 |
| 致谢 | 第87页 |
