| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪言 | 第11-24页 |
| 1.1 太阳能电池概述 | 第11-15页 |
| 1.1.1 太阳能电池的发展 | 第12-14页 |
| 1.1.2 太阳能电池的制备材料 | 第14-15页 |
| 1.2 硅基薄膜太阳能电池 | 第15-17页 |
| 1.2.1 硅基薄膜太阳能电池制备技术的发展 | 第15-17页 |
| 1.2.2 硅基薄膜电池窗口层的选择 | 第17页 |
| 1.3 TCO薄膜的介绍 | 第17-19页 |
| 1.4 AZO导电薄膜 | 第19-21页 |
| 1.4.1 ZnO薄膜结构属性 | 第19页 |
| 1.4.2 AZO薄膜的导电机理和光学性质 | 第19-21页 |
| 1.5 研究思路与主要研究内容 | 第21-22页 |
| 1.6 本论文的行文结构 | 第22-24页 |
| 第二章 制备设备的介绍及性能的表征 | 第24-29页 |
| 2.1 实验设备介绍和制备工艺 | 第24-26页 |
| 2.1.1 实验所用的磁控溅射镀膜仪 | 第24-25页 |
| 2.1.2 制备工艺 | 第25-26页 |
| 2.1.3 磁控溅射原理 | 第26页 |
| 2.2 薄膜性能的表征 | 第26-29页 |
| 2.2.1 X射线衍射仪（XRD） | 第26-27页 |
| 2.2.2 紫外分光光度计（UV-2450） | 第27页 |
| 2.2.3 扫描电子显微镜（SEM） | 第27-28页 |
| 2.2.4 四探针电阻仪 | 第28-29页 |
| 第三章 共溅Zn和Al靶制备AZO薄膜的性能研究 | 第29-55页 |
| 3.1 氧氩比对薄膜性能的影响 | 第29-35页 |
| 3.1.1 氧氩比对结晶性能的影响 | 第30-33页 |
| 3.1.2 氧氩比对导电率的影响 | 第33-34页 |
| 3.1.3 氧氩比对光学性能的影响 | 第34-35页 |
| 3.2 铝含量对薄膜性能的影响 | 第35-43页 |
| 3.2.1 不同铝掺杂量对薄膜结晶性能的影响 | 第38-41页 |
| 3.2.2 不同铝掺杂量对薄膜电学性能的影响 | 第41-42页 |
| 3.2.3 不同铝掺杂量对薄膜光学性能的影响 | 第42-43页 |
| 3.3 退火处理对AZO薄膜的影响 | 第43-48页 |
| 3.3.1 退火温度对薄膜性能的影响 | 第44-47页 |
| 3.3.2 退火时间对薄膜性能的影响 | 第47-48页 |
| 3.4 无氧气氛下ZnO薄膜的制备与探讨 | 第48-53页 |
| 3.4.1 氩气流量对薄膜结晶性能的影响 | 第49-52页 |
| 3.4.2 退火处理对薄膜结晶性能以及光学性能的影响 | 第52-53页 |
| 3.5 小结 | 第53-55页 |
| 第四章 射频溅射陶瓷靶制备AZO薄膜的性能研究 | 第55-70页 |
| 4.1 氧氩比对薄膜性能的影响 | 第55-60页 |
| 4.1.1 氧氩比对薄膜结晶性能的影响 | 第55-58页 |
| 4.1.2 氧氩比对薄膜光电性能的影响 | 第58-60页 |
| 4.2 氩气压对薄膜性能影响 | 第60-63页 |
| 4.2.1 氩气压对薄膜结晶性能的影响 | 第61-62页 |
| 4.2.2 氩气压对AZO薄膜光电性能的影响 | 第62-63页 |
| 4.3 退火处理对AZO薄膜的影响 | 第63-69页 |
| 4.3.1 退火温度对薄膜性能的影响 | 第64-67页 |
| 4.3.2 退火时间对薄膜性能的影响 | 第67-69页 |
| 4.4 小结 | 第69-70页 |
| 第五章 结论与展望 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 攻读硕士研究生学位期间发表或收录论文 | 第77页 |