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焊接层空洞比例对功率场效应管器件的性能影响研究

摘要第1-6页
Abstract第6-7页
目录第7-9页
第一章 绪论第9-21页
   ·研究背景与意义第9-13页
   ·与本课题相关的研究历史与现状第13-15页
   ·本文主要研究内容第15-21页
第二章 功率MOSFET器件关键原理研究第21-33页
   ·功率MOSFET器件第22-24页
   ·功率MOSFET器件的直流温度敏感参数第24-27页
   ·功率MOSFET器件的动态电特性第27-29页
   ·功率MOSFET器件热阻第29-31页
   ·安全工作区域第31-32页
   ·本章小结第32-33页
第三章 单个中心空洞对功率MOSFET器件的影响研究第33-65页
   ·实验样品制备第33-39页
     ·焊接层空洞形成原因第35-36页
     ·焊接层空洞比例控制第36-39页
   ·单个中心空洞对直流温度敏感参数的影响研究第39-44页
     ·直流温度敏感参数测试方法第40-42页
     ·直流温度敏感参数测试结果第42-44页
   ·单个中心空洞对动态电特性参数的影响研究第44-48页
   ·焊接层空洞对热阻Rthjc影响的模拟第48-51页
   ·单个中心空洞对热阻的影响研究第51-58页
     ·瞬态热阻Zthjc第52-54页
     ·热阻Rthjc测试方法第54-56页
     ·Rthjc测试结果第56-58页
   ·单个中心空洞对安全工作区域的影响研究第58-62页
     ·安全工作区域界定方法第59-60页
     ·安全工作区域研究结果第60-62页
   ·本章小结第62-65页
第四章 实验结果分析验证与产品空洞率标准的界定第65-75页
   ·直流温度敏感参数分析与验证第65-68页
   ·动态电特性参数分析与验证第68-70页
   ·热阻Rthjc分析与验证第70-72页
   ·本章小结第72-75页
第五章 结论与展望第75-79页
   ·本论文研究总结第75-76页
   ·前景展望第76-79页
参考文献第79-81页
致谢第81-83页
个人简历、在学期间发表的论文与研究成果第83页

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